[发明专利]显示装置及其显示基板、显示基板的制作方法

说明书

本发明提供了一种显示装置及其显示基板，显示基板的制作方法，在透明显示区，相邻第一子像素之间的第一像素定义层内具有开口，开口外具有隔断层，隔断层包括第一区段与第二区段，第一区段位于第一像素定义层上，第二区段悬空于开口，借此隔断相邻第一子像素的第二电极。悬空的隔断层对导电材料的隔断效果佳，相邻第一子像素的第二电极不会电导通；此外，省略了现有技术中用于隔断第二电极的隔离柱，简化了透明显示区的膜层结构，能降低经透明显示区成像时的衍射问题。

技术领域

本发明涉及显示设备技术领域，尤其涉及一种显示装置及其显示基板、显示基板的制作方法。

背景技术

随着显示装置的快速发展，用户对屏幕占比的要求越来越高，由于屏幕上方需要安装摄像头、传感器、听筒等元件，因此现有技术中屏幕上方通常会预留一部分区域用于安装上述元件，例如苹果手机iphoneX的前刘海区域，影响了屏幕的整体一致性，全面屏显示受到业界越来越多的关注。

发明内容

本发明的发明目的是提供一种用于全面屏的显示装置及其显示基板、显示基板的制作方法。

为实现上述目的，本发明的第一方面提供一种显示基板，包括透明显示区，所述透明显示区包括：

透光基底，所述透光基底包括交替分布的第一像素区与第一非像素区；

位于所述第一像素区的第一子像素；所述第一子像素自下而上包括第一电极、第一发光结构层与第二电极；以及

位于所述第一非像素区的第一像素定义层与隔断层，所述第一像素定义层具有开口；所述隔断层包括第一区段与第二区段，所述第一区段位于所述第一像素定义层上，所述第二区段悬空于所述开口，用于隔断所述相邻第一像素区的第二电极。

可选地，所述开口在上下方向上贯穿或部分贯穿所述第一像素定义层；

优选地，所述第二区段的长度范围为：1μm～2μm；

优选地，所述第二区段的厚度范围为：50nm～100nm；

优选地，所述开口的深度大于所述第二电极的厚度；

优选地，所述开口的深度大于400nm；

优选地，所述第一像素定义层的材料为无机透明材料；

优选地，所述第一像素定义层的材料为有机透明材料。

可选地，所述第一子像素为被动驱动方式发光；位于一列的各个第一子像素的所述第一电极电连接，位于一行的各个第一子像素的所述第二电极电连接，所述隔断层与所述开口都沿行方向延伸；或位于一行的各个第一子像素的所述第一电极电连接，位于一列的各个第一子像素的所述第二电极电连接，所述隔断层与所述开口都沿列方向延伸；

优选地，位于一列或一行的相邻第一电极之间具有连接线，所述连接线用于将对应列或行的各个第一电极电连接；

优选地，所述连接线上具有绝缘层，且所述绝缘层暴露在所述开口内；

优选地，所述连接线为直线、折线或曲线；

优选地，位于一列或一行的各个第一电极连接成电极条；

优选地，位于所述第一非像素区的电极条上具有绝缘层，且所述绝缘层暴露在所述开口内。

可选地，所述第一电极延伸至第一非像素区；所述第一非像素区内的第一电极包埋在第一像素定义层内，或恰好暴露在所述开口内。

可选地，所述显示基板还包括非透明显示区；所述非透明显示区包括：

透光基底，所述透光基底包括交替分布的第二像素区与第二非像素区；