[发明专利]一种玻璃基板上的黑色矩阵的制备方法及其应用

说明书

本发明提供一种玻璃基板上的黑色矩阵的制备方法及其应用，包括以下步骤：步骤S1：提供一玻璃基板，在所述玻璃基板上涂布光阻形成光阻层；步骤S2：在所述光阻层上形成光阻凹槽；步骤S3：将黑色矩阵光阻填充入所述光阻凹槽；步骤S4：对所述黑色矩阵光阻进行曝光得到黑色矩阵。本发明提供一种玻璃基板上的黑色矩阵的制备方法，能够使得黑色矩阵线宽变细、锥角变高，满足高分辨率的需求，有助于提高产品开口率；另一方面由于减少了显影制程，使得方法操作简便，无制程难点，容易实现，并且减少了显影制程带来的锥角低或者发生底切以及剥落的问题。

技术领域

本发明涉及显示面板技术领域，特别涉及一种玻璃基板上的黑色矩阵的制备方法及其应用。

背景技术

TFT-LCD面板组成中的CF(Color Filter)彩色滤光片是由排列成矩阵的众多像素构成，而每个像素又由红(R)、绿(G)、蓝(B)三个子像素组成，为了防止各色子像素发生混色，通常使用黑色矩阵(Black Matrix)进行分隔。随着像素技术的发展，8K、16K等高分辨率(PPI)显示技术相继出现，这就要求其中像素的数量增多，尺寸减少，同时用于分隔彩色滤光片的黑色矩阵的线宽也需要设计的更小。为满足高分辨率的技术需求，制备的细线宽的黑色矩阵也需要有较高的锥角(Taper Angle)，原因是避免低锥角引起的开口率降低的问题。

一直以来，提高像素开口率一直是液晶显示行业的技术追求，常用的技术方案有多种，如利用铜配线代替铝配线来降低电阻率；采用COA或BOA技术，防止黑色矩阵遮光区域或彩膜发生位移、对准不佳导致开口率降低。这些方案均可以提高像素开口率，从而实现高透过率的目的。除此之外，制备细线宽、高锥角的黑色矩阵不仅可以满足高分辨率的需求，同时也可以在一定程度上提升开口率，从而增加面板透过率，节省成本。

现有技术中黑色矩阵主要依照光刻工艺来获得，首先使用负性光阻进行涂布成膜，再经过光罩进行曝光制程，曝光的部分发生固化不与显影液反应，经过显影制程后被保留，最后经过后烘烤制程得到最终图案。但由于负性光阻分辨率低，以及制程工艺存在瓶颈等问题，通常制备得到的黑色矩阵会存在线宽较大，锥角较低等问题。

因此，确有必要来开发一种新型的黑色矩阵的制备方法，以克服现有技术的缺陷。

发明内容

本发明的一个目的是提供一种玻璃基板上的黑色矩阵的制备方法，其能够解决现有技术中黑色矩阵线宽较大、锥角较低等问题。

为实现上述目的，本发明提供一种玻璃基板上的黑色矩阵的制备方法，包括以下步骤：

步骤S1：提供一玻璃基板，在所述玻璃基板上涂布光阻形成光阻层；

步骤S2：在所述光阻层上形成光阻凹槽；

步骤S3：将黑色矩阵光阻填充入所述光阻凹槽；

步骤S4：对所述黑色矩阵光阻进行曝光得到黑色矩阵。

进一步的，在其他实施方式中，其中所述步骤1中的所述光阻为正性光阻，所述步骤S2中所述光阻凹槽是通过光刻制程形成的。

进一步的，在其他实施方式中，其中所述步骤1中的所述光阻为正性光阻，所述步骤S2中所述光阻凹槽是通过激光切割形成的。

进一步的，在其他实施方式中，所述步骤1中的所述光阻为负性光阻，所述步骤S2中所述光阻凹槽是通过光刻制程形成的。

进一步的，在其他实施方式中，其中所述步骤1中的所述光阻为负性光阻，所述步骤S2中所述光阻凹槽是通过激光切割形成的。

进一步的，在其他实施方式中，其中所述光阻凹槽的剖面形状为矩形形状。

进一步的，在其他实施方式中，其中所述光阻凹槽的宽度小于10微米。