[发明专利]金属遮罩

说明书

本发明涉及一种金属遮罩，其包括一金属材料的遮罩板体以及形成于遮罩板体一侧或两侧的蚀刻构造，蚀刻构造具有至少一图案化蚀刻槽，遮罩板体于图案化蚀刻槽沿着板厚方向的侧边具有板体基部，其中，通过遮罩板体单一侧或两侧的蚀刻构造的图案化蚀刻槽中形成图案化肋部，或是利用遮罩板体两侧形成对称或不对称的蚀刻构造，使板体基部位于遮罩板体的板厚中的中间位置等，使金属遮罩不改变遮罩板体厚度的条件下，有效地提升其机械强度，且具备改善镀膜制造方法粘片的功效。

技术领域

本发明涉及一种金属遮罩，尤指一种应用于镀膜制造方法中，提供局部遮蔽功能，用以在玻璃基板或软性基板的表面形成图案化镀膜的金属遮罩。

背景技术

目前有机发光二极体(Organic Light-Emitting Diode，OLED)式显示器的制造过程中，如图6所示，为于其玻璃基板或软性基板等的基板表面以物理气相沉积(physicalvapor deposition，PVD)或化学气相沉积(chemical vapor deposition，CVD)等手段，结合具有多个图案化镀膜孔41的金属遮罩40进行镀膜制造方法时，能防止阴影效应(shadoweffect)的产生，金属遮罩40必须接触基板50(如玻璃基材或软性基板等)的状态下进行镀膜制造方法。

前述镀膜制造方法中，由于金属遮罩40与基板50(玻璃基板或软性基板等)的表面光滑，在真空环境中，金属遮罩40与基板50(玻璃基板或软性基板等)之间易产生粘片现象。为了改善前述镀膜制造方法中易产生粘片的问题，如图7所示，一般相关制造业者目前大多采取对金属遮罩60施以半蚀刻，使金属遮罩60的一侧相对于图案化镀膜孔61的外围区域分别形成半蚀刻槽62。

但是半蚀刻制造方法的工序对精密蚀刻制造方法控制而言，其难度偏高，造成金属遮罩的产品不良率偏高，制造成本相对升高。而且，当金属遮罩承受不平衡的拉伸张力时，会产生不均衡的应变，导致金属遮罩的局部部位发生变形或翘曲等问题，影响镀膜品质。

此外，前述镀膜制造方法中，当镀膜步骤结束、泄真空时，金属遮罩与玻璃基板或软性基板的接触区域在脱离过程中，容易因局部低真空的粘片现象，造成金属遮罩与玻璃基板或软性基板等相异材料的两物件间的摩擦而易产生刮伤、擦伤等外观不良问题。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是：提供一种金属遮罩，解决现有金属遮罩为了改善粘片问题而经过半蚀刻后，其构造难以达到较佳机械强度等问题。

本发明所提出的一技术解决方案是：提供一种金属遮罩，其包括一金属材料的遮罩板体，该遮罩板体界定有一接触区域，以及位于接触区域外围的周边区域，该接触区域中设有多个镀膜图案孔以及位于相邻镀膜图案孔之间的遮蔽部；其中：

该金属遮罩包括一蚀刻构造，该蚀刻构造形成于该遮罩板体的一侧，且该遮罩板体于所述蚀刻构造沿着该遮罩板体的板厚方向的另一侧边具有一板体基部，所述蚀刻构造包括至少一图案化蚀刻槽以及位于所述图案化蚀刻槽中的至少一图案化肋部，所述图案化蚀刻槽的蚀刻深度小于或等于该板体基部的厚度，所述图案化肋部连接所述板体基部。

如上所述的金属遮罩中，所述蚀刻构造位于该遮蔽部范围内的总面积大于或等于该接触区域的总面积的20％，且小于或等于该接触区域的总面积的85％。

如上所述的金属遮罩中，所述图案化蚀刻槽的槽宽大于或等于所述图案化肋部的肋宽，所述蚀刻构造的图案化蚀刻槽包括多个槽沟单元，多个所述槽沟单元连接一体，使所述蚀刻构造的图案化蚀刻槽形成连续图形。

如上所述的金属遮罩中，所述图案化蚀刻槽的槽宽大于或等于所述图案化肋部的肋宽，所述蚀刻构造的图案化蚀刻槽包括多个槽沟单元，所述槽沟单元未完全连接，使所述蚀刻构造的图案化蚀刻槽的图案为不连续图形，位于所述图案化蚀刻槽中的所述图案化肋部形成连续图形，且连接该遮罩板体的周边区域。