[发明专利]一种基板垫块、基板传送设备和成膜系统

权利要求书

1.一种基板垫块，其特征在于，包括：垫块本体以及设在垫块本体顶面的基板接触结构，所述基板接触结构具有远离垫块本体顶面的基板接触面；所述基板接触面为基板接触斜面；

所述基板垫块为弹性基板垫块；所述基板垫块还包括用于支撑所述垫块本体的垫块支撑结构，所述垫块支撑结构设在垫块本体的底面，所述垫块支撑结构和所述基板接触结构沿着同一方向伸出所述垫块本体，所述垫块支撑结构伸出垫块本体的区域、所述基板接触结构伸出垫块本体的区域之间具有塌陷空隙。

2.根据权利要求1所述的基板垫块，其特征在于，所述垫块支撑结构具有靠近垫块本体底面的辅助接触面，所述辅助接触面的部分区域与所述垫块本体底面固定在一起。

3.根据权利要求2所述的基板垫块，其特征在于，所述基板接触斜面沿着所述基板接触结构的伸出方向与所述辅助接触面之间的距离逐渐减小，所述基板接触结构在辅助接触面的正投影位于所述辅助接触面内。

4.根据权利要求2所述的基板垫块，其特征在于，所述垫块支撑结构包括支撑板和至少一个安装支脚，所述辅助接触面位于所述支撑板靠近垫块本体的底面，所述至少一个安装支脚设在所述支撑板远离垫块本体底面的表面。

5.根据权利要求4所述的基板垫块，其特征在于，所述至少一个安装支脚在所述辅助接触面所在面的正投影与所述垫块本体在所述辅助接触面的正投影相互独立。

6.根据权利要求1～5任一项所述的基板垫块，其特征在于，所述垫块的顶面所在面与所述基板接触斜面所在面的夹角为5°～35°。

7.根据权利要求1～5任一项所述的基板垫块，其特征在于，所述基板接触斜面具有第一延伸方向和第二延伸方向，所述基板接触斜面在第一延伸方向的长度小于所述基板接触斜面在第二延伸方向的长度，所述基板接触斜面沿着所述第一延伸方向与垫块本体顶面的距离逐渐变化，所述基板接触斜面沿着所述第二延伸方向与垫块本体顶面的距离保持恒定。

8.一种基板传送设备，其特征在于，包括至少一个权利要求1～7任一项所述基板垫块。

9.一种成膜系统，其特征在于，包括权利要求8所述的基板传送设备。