[发明专利]基板处理装置和基板处理方法

说明书

本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法，向被施加浮起力并搬运的基板良好地涂敷处理液。涂敷装置(1)具有：搬运机构(5)，使由浮起工作台部(3)被施加浮起力的浮起基板(W)沿着X方向移动；测量器(72)，测量浮起基板(W)的铅垂位置；以及测量器移动部(76)，使测量器(72)沿着Y方向移动。测量器(72)通过沿着Y方向移动，测量Y方向的不同的多个地点上的浮起基板W的铅垂位置。

技术领域

本发明涉及一种基板处理装置以及基板处理方法，特别地，涉及一种向被施加浮起力来搬运的基板合适地涂敷处理液的技术。作为处理对象的基板包括例如半导体基板、液晶显示装置以及有机电致发光(EL：Electroluminescence)显示装置等平板显示器(FPD：Flat Panel Display)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板、光掩模用基板、陶瓷基板、太阳能电池用基板。

背景技术

在半导体装置及液晶显示装置等电子部件等的制造工序中，使用向基板的表面涂敷涂敷液的涂敷装置。作为这样的涂敷装置，已知具有如下装置：一边在向基板的背面吹送空气使基板浮起的状态下搬运该基板，一边从沿着基板的宽度方向延伸的喷嘴向该基板的表面(相当于基板的主面)喷出涂敷液，来对基板涂敷涂敷液(例如，专利文献1)。

在专利文献1所记载的基板处理装置中，在浮起工作台上使基板以水平姿势浮起，并且保持基板的周缘部使其沿水平方向移动，从而搬运该基板，并从配置在基板搬运路径的上方的狭缝喷嘴喷出涂敷液。

在专利文献1的基板处理装置中，在基板的上方具有测量基板的浮起高度的光学式距离传感器。根据基板的浮起高度，能够一边调整狭缝喷嘴的高度一边供给涂敷液。

专利文献1：日本特开2012-142583号公报

但是，在专利文献1中，由于光学式距离传感器被固定于狭缝喷嘴，因此在与搬运方向正交的横向(基板的宽度方向)上只能在固定的位置测量基板的浮起高度。因此，不能获取基板的横向的浮起高度的分布。例如，因浮起工作台的浮起力不足等而在横向的基板的浮起高度上产生偏差的情况下，存在引起处理液的涂敷不良的担忧。

发明内容

因此，本发明的目的在于，提供一种技术，能够向被施加浮起力来搬运的基板良好地涂敷处理液。

为了解决上述课题，第一方式是一种基板处理装置，处理具有第一主面及第二主面的基板，其中，所述基板处理装置具有：浮起机构，对所述第一主面在铅垂方向上向上的所述基板施加浮起力；搬运机构，使被施加所述浮起力的所述基板即浮起基板沿着第一方向移动，所述第一方向为水平方向；喷嘴，具有沿着与所述第一方向正交的第二方向延伸的喷出口，能够从所述喷出口朝向所述浮起基板的所述第一主面喷出处理液，所述第二方向为水平方向；测量器，测量所述浮起基板的铅垂位置；以及测量器移动机构，使所述测量器沿着所述第二方向移动。

第二方式是第一方式的基板处理装置，其中，所述测量器移动机构使所述测量器朝向所述第二方向以及所述第一方向的上游侧以及下游侧移动。

第三方式是第二方式的基板处理装置，其中，所述基板处理装置还具备缓冲部，所述缓冲部设置于如下位置：相对于所述喷嘴位于所述第一方向的上游侧，且至少与所述喷嘴的所述喷出口的顶端部在水平方向上重叠。

第四方式是第三方式的基板处理装置，其中，所述测量器移动机构使所述测量器在第一位置至第二位置之间沿着所述第二方向移动，所述第一位置是能够测量所述浮起基板的来自所述喷嘴的所述处理液附着于所述浮起基板的水平位置即附着水平位置上的铅垂位置的位置，所述第二位置是能够测量所述浮起基板的所述喷嘴喷出所述处理液时的所述缓冲部的水平位置上的铅垂位置的位置。

第五方式是从第一方式至第四方式中的任一个所述基板处理装置，其中，所述基板处理装置具有多个所述测量器，多个所述测量器在所述第二方向的不同的位置测量所述浮起基板的铅垂位置。