[发明专利]用于光电设备的控制部件

权利要求书

1.一种制造用于光电设备的包括像素电极阵列的控制部件的方法，所述方法包括：

在支撑膜之上原位形成图案化基质材料层和/或一个或多个图案化滤色器材料层；

在所述支撑膜之上原位形成限定电气电路的层的叠堆，所述像素电极阵列中的每一个经由所述电气电路可被独立寻址；

其中，形成所述层的叠堆包括在所述图案化基质材料层和/或一个或多个图案化滤色器材料层之上至少原位形成：

限定源导体阵列和漏导体阵列的图案化导体层；

限定源导体和漏导体之间的半导体沟道的半导体沟道材料层；以及

限定栅导体阵列的另一个图案化导体层，所述栅导体阵列在所述沟道区域中提供栅电极。

2.根据权利要求1所述的方法，包括：

(a)在所述支撑膜之上原位形成所述一个或多个图案化滤色器材料层；

(b)在所述一个或多个图案化滤色器材料层之上至少原位形成：

限定所述源导体阵列和所述漏导体阵列的所述图案化导体层，

限定源导体和漏导体之间的半导体沟道的所述半导体沟道材料层，以及

限定栅导体阵列的所述另一个图案化导体层，所述栅导体阵列在所述沟道区域中提供栅电极；

(c)在所述图案化导体层、所述半导体沟道材料层和所述另一个图案化导体层之上原位形成所述图案化基质材料层；以及

(d)在所述图案化基质材料层之上原位形成所述像素电极。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，其中所述一个或多个图案化滤色器材料层包括在可见光谱中的相应波长处表现出峰值透射的一个或多个图案化绝缘材料层。

4.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，其中所述图案化基质材料层包括所述沟道区域中的基质材料。

5.一种制造用于光电设备的包括像素电极阵列的控制部件的方法，所述方法包括：

在支撑膜之上原位形成图案化基质材料层和一个或多个图案化滤色器材料层；

在所述支撑膜之上原位形成限定电气电路的层的叠堆，所述像素电极阵列中的每一个经由所述电气电路可被独立寻址；

其中，形成所述层的叠堆包括在所述图案化基质材料层和所述一个或多个图案化滤色器材料层之间提供所述层的叠堆中的一个或多个层。

6.根据权利要求5所述的方法，其中，所述图案化基质材料层和所述一个或多个图案化滤色器材料层之间的所述一个或多个层包括：

限定源导体阵列和漏导体阵列的图案化导体层；

限定沟道区域中的半导体沟道的半导体沟道材料层，在所述沟道区域中源导体和漏导体在所述图案化导体层内最接近；以及

限定栅导体阵列的另一个图案化导体层，所述栅导体阵列在所述沟道区域中提供栅电极。

7.根据前述任一权利要求所述的方法，其中在所述支撑膜之上原位形成所述图案化基质材料层包括在所述支撑膜之上原位形成连续的基质材料层并且在所述支撑膜之上原位图案化所述连续的基质材料层。

8.根据前述任一权利要求所述的方法，其中在所述支撑膜之上原位形成图案化滤色器材料层包括在所述支撑膜之上原位形成连续的滤色器材料层并且在所述支撑膜之上原位图案化所述连续的滤色器材料层。

9.一种制造显示设备的方法，包括：将液晶材料包含在计数器部件和通过根据前述任一权利要求所述的方法制造的控制部件之间。