[发明专利]控制装置、曝光装置、以及制造物品的方法有效
申请号: | 201910596648.2 | 申请日: | 2019-07-04 |
公开(公告)号: | CN110687756B | 公开(公告)日: | 2022-08-23 |
发明(设计)人: | 栗原孝史 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 张劲松 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 控制 装置 曝光 以及 制造 物品 方法 | ||
本发明公开了控制装置、曝光装置、以及制造物品的方法。本发明提供了一种用于执行同步控制的控制装置,所述同步控制用于同步第二移动部件的驱动以便跟随第一移动部件的驱动,所述控制装置包括前馈控制系统,所述前馈控制系统包括计算器,所述计算器被配置为获得彼此同步地驱动所述第一移动部件和第二移动部件时所述第一移动部件和第二移动部件的位置偏差、以及所述第二移动部件的输入/输出响应,并且基于所述第一移动部件与第二移动部件之间的同步误差以及所述第二移动部件的输入/输出响应计算前馈操纵变量,所述第一移动部件与第二移动部件之间的同步误差是从所述第一移动部件和第二移动部件的位置偏差获得的。
技术领域
本发明涉及控制装置、曝光装置、以及制造物品的方法。
背景技术
作为用于制造半导体器件等的光刻装置的一种的曝光装置需要抑制在向目标位置移动诸如保持掩模版(reticle)(原版(original))或基板的台架的移动部件(控制目标)时的位置偏差。为了实现这一点,日本专利No.5968017提出了一种向移动部件应用基于移动部件的控制响应和位置偏差生成的前馈表以抑制基于其生成前馈表的位置偏差的技术。
步进扫描曝光装置(扫描仪)采用同步地驱动掩模版台架和基板台架的主(master)-从(slave)方法作为驱动掩模版台架(第一移动部件)和基板台架(第二移动部件)的方法。即使日本专利No.5968017中公开的技术被应用于这样的曝光装置并且基于每个台架的位置偏差生成的前馈表被应用于每个台架,也不可能抑制从设备侧的台架的位置偏差。另外,作为掩模版台架的位置偏差与基板台架的位置偏差之间的差值的同步误差也变大。
发明内容
本发明提供了一种在抑制第一移动部件与第二移动部件之间的同步误差上有利的控制装置。
根据本发明的第一方面,提供一种用于执行同步控制的控制装置,所述同步控制用于同步第二移动部件的驱动以便跟随第一移动部件的驱动,所述控制装置包括:反馈控制系统,所述反馈控制系统被配置为对所述第一移动部件和第二移动部件中的每一个执行反馈控制,以减小与目标位置的位置偏差;以及前馈控制系统,所述前馈控制系统被配置为通过向所述第二移动部件提供前馈操纵变量来执行前馈控制,以减小在所述反馈控制被执行的状态下所述第一移动部件与第二移动部件之间的同步误差,其中,所述前馈控制系统包括计算器,所述计算器被配置为获得彼此同步地驱动所述第一移动部件和第二移动部件时所述第一移动部件和第二移动部件的位置偏差、以及所述第二移动部件的输入/输出响应,并且基于所述第一移动部件与第二移动部件之间的同步误差以及所述第二移动部件的输入/输出响应计算所述前馈操纵变量,所述第一移动部件与第二移动部件之间的同步误差是从所述第一移动部件和第二移动部件的位置偏差获得的。
根据本发明的第二方面,提供一种用于控制包括多个驱动轴的移动部件的驱动的控制装置,所述控制装置包括:反馈控制系统,所述反馈控制系统被配置为关于所述移动部件沿第一驱动轴和第二驱动轴中的每一个的驱动执行反馈控制,以减小所述移动部件与目标位置的位置偏差,所述第二驱动轴不同于所述第一驱动轴;以及前馈控制系统,所述前馈控制系统被配置为通过关于所述移动部件沿所述第二驱动轴的驱动向所述移动部件提供第一前馈操纵变量来执行前馈控制,以减小在所述反馈控制被执行的状态下所述移动部件沿所述第一驱动轴的驱动对所述移动部件沿所述第二驱动轴的驱动的影响,其中,所述前馈控制系统包括计算器,所述计算器被配置为获得关于沿所述第一驱动轴的驱动要被提供给所述移动部件的第二前馈操纵变量、对关于沿所述第一驱动轴的驱动的操纵变量的输入的所述移动部件的所述第二驱动轴上的第一输入/输出响应、以及对关于沿所述第二驱动轴的驱动的操纵变量的输入的所述移动部件的所述第二驱动轴上的第二输入/输出响应,并且基于所述第二前馈操纵变量、第一输入/输出响应、以及第二输入/输出响应计算所述第一前馈操纵变量。
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