[发明专利]一种无刺花椒高产种植方法

说明书

本发明公开了一种无刺花椒高产种植方法，包括以下步骤：S1土壤改善、S2区域设定、S3种植穴设定、S4幼苗培育、S5修叶剪枝、S6果实测定；本发明的有益效果是：通过污泥、疏松层、沙质土壤形成三层地基土的结构，进而提升地基土的多样性；通过设置种植穴，固定无刺花椒树根系的同时提供移栽后初期的营养，也可以排出根系淤积的水分；通过采用碱水，通碱洗去除种皮的油脂，同时刺激种子萌发生芽，方便后期进入营养液中培育；通过采用家畜粪便、无刺花椒叶、无刺花椒枝、棉籽粕、鸡蛋壳粉，增加无刺花椒树的营养，同时施加无刺花椒枝、叶提升无刺花椒树的免疫能力；利用鸡蛋壳粉，提高无刺花椒树的钙质吸收同时作为填充剂使肥料被充分吸收。

技术领域

本发明涉及花椒种植领域，具体是一种无刺花椒高产种植方法。

背景技术

花椒为芸香科落叶灌木或小乔木，蜀椒的果实果皮名为椒红，被誉为“八大调味品”之一，是家庭常用烹饪调料和中药配料，花椒是我国栽培历史悠久分布很广泛的香料、油料，树种种植面积和产量以及花椒品种居世界首位，占有绝对的优势，但由于其枝干、叶片上均生有短刺，因此采摘时需要特别注意，进而限定了花椒种植面积不宜过大。

日本无刺花椒由于其具有抗旱、耐涝的特性而被引进国内，同时其具有寿命长、产量高、抗逆性强、品质好、易采摘的特性：

1、寿命长，无刺花椒树，树龄可达30年左右，是现有花椒树树龄(10年)的3倍。

2、产量高，无刺花椒树，盛果期旱地单株产量平均可达到4斤，是现有大红袍花椒单株产量(平均约2.5斤)的1.6倍左右；盛果期水浇地单株产量平均可达到7.5斤，是现有大红袍花椒单株产量(平均约2.5斤)的3倍左右。

3、抗逆性强，具有抗病性强、抗寒、抗旱、耐涝、抗盐碱、抗虫害等特点，可普遍成活于干旱或阴湿地带，并可栽植成活于原有花椒树死亡后的地点，破解了现有花椒死亡后，原地补植不易成活的瓶颈。

4、品质好，无刺花椒树，果实颗粒饱满，色泽殷红鲜亮，香味纯正、醇麻持久的独特优势走俏市场，价格竞争优势突出。

5、易采摘，无刺花椒树，树身几乎无刺，花椒粒硕大集中，便于采摘，极大降低了采摘成本。

现有的无刺花椒种植技术，大多选用沙质土壤，同时建设少量沟渠排水，进而期望达到高产无刺花椒果实目的，但忽视了无刺花椒树的根部快速排水以及无刺花椒修枝剪叶的重要性。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术的不足，提供一种，以至少达到高产无刺花椒果实、快速排水的目的

本发明的目的是通过以下技术方案来实现的：一种无刺花椒高产种植方法，包括以下步骤：

S1土壤改善：选用有机质质量占比60-80％、pH为6.5-7.5的沙质土壤，朝向南，坡度15-20°，在沙质土壤上均匀铺满原料为秸秆、稻壳、花生壳的疏松层，待铺设均匀后采用富含微生物的污泥铺满覆盖形成基土，将形成的基土钉耙打散后再均匀铺设形成地基，同时浇注复合肥料并用地膜覆盖2-3d；

S2区域设定：将S1中地膜覆盖后的地基按照“井”字均匀开挖深度为20-30cm的沟渠分区，将挖掘出的地基土留待备用，同时挖掘出的沟渠内壁铺设碳渣、河沙；将沟渠分区处按照每个分区100-200垄进行隔断，垄高15-20cm同时垄底部开挖深度为5-10cm的排水沟，排水沟内铺设碳渣、河沙；

S3种植穴设定：在S2设定的垄顶端开挖种植穴，按照每垄间隔1-1.5m设置，所述种植穴深度为20-30cm，内壁均匀铺满玉米棒粉末，采用原料为秸秆、稻壳、花生壳的疏松层塞满种植穴底部；