[发明专利]一种具有高写裕度的10T TFET与MOSFET器件混合型SRAM单元电路有效
申请号: | 201910599805.5 | 申请日: | 2019-07-04 |
公开(公告)号: | CN110379449B | 公开(公告)日: | 2021-04-30 |
发明(设计)人: | 卢文娟;欧阳春;董兰志;彭春雨;吴秀龙;蔺智挺;陈军宁 | 申请(专利权)人: | 安徽大学 |
主分类号: | G11C11/412 | 分类号: | G11C11/412;G11C11/417 |
代理公司: | 北京凯特来知识产权代理有限公司 11260 | 代理人: | 郑立明;郑哲 |
地址: | 230601 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 具有 高写裕度 10 tfet mosfet 器件 混合 sram 单元 电路 | ||
1.一种具有高写裕度的10T TFET与MOSFET器件混合型SRAM单元电路,其特征在于,包括:六个NTFET晶体管、两个PTFET晶体管以及两个NMOSFET晶体管;六个NTFET晶体管依次记为N1~N6;两个PTFET晶体管分别记为P1与P2;两个NMOSFET晶体管分别记为N7与N8;其中:
VDD和PTFET晶体管P1的源极以及PTFET晶体管P2的源极电连接;
PTFET晶体管P1的漏极,与NTFET晶体管N1的漏极、NTFET晶体管N3的漏极、PTFET晶体管P2的栅极以及NTFET晶体管N2的栅极电连接;
PTFET晶体管P2的漏极,与PTFET晶体管P1的栅极、NTFET晶体管N1的栅极、NTFET晶体管N6的栅极、NTFET晶体管N2的漏极以及NTFET晶体管N4的漏极电连接;
NTFET晶体管N3的源极与NMOSFET晶体管N7的漏极电连接;
NTFET晶体管N4的源极与NMOSFET晶体管N8的漏极电连接;
NTFET晶体管N5的源极与NTFET晶体管N6的漏极电连接;
NTFET晶体管N1的源极、NTFET晶体管N2的源极、NTFET晶体管N6的源极、NMOSFET晶体管N7的源极、以及NMOSFET晶体管N8的源极均与GND电连接;
字线WL与NTFET晶体管N3的栅极、以及NTFET晶体管N4的栅极电连接;位线BL与NMOSFET晶体管N7的栅极电连接;位线BLB与NMOSFET晶体管N8的栅极电连接;读字线RWL与NTFET晶体管N5的栅极电连接;读位线RBL与NTFET晶体管N5的漏极电连接。
2.根据权利要求1所述的一种具有高写裕度的10T TFET与MOSFET器件混合型SRAM单元电路,其特征在于,
PTFET晶体管P1与NTFET晶体管N1、PTFET晶体管P2与NTFET晶体管N2构成了两个反相器,这两个反相器构成了SRAM单元电路的锁存部分;NTFET晶体管N5与N6构成读写分离用作读操作部分的电路;SRAM单元电路的传输管部分采用了NMOSFET与TFET器件组合的方式,即NTFET晶体管N3与N4、以及NMOSFET晶体管N7与N8构成SRAM单元电路的传输管部分;
SRAM单元电路采用了读写分离的方式,写操作时,NMOSFET的栅压控制端采用升压的方式,即当位线BL与位线BLB使能时,其栅压电压为N伏,所述N为设定值。
3.根据权利要求1所述的一种具有高写裕度的10T TFET与MOSFET器件混合型SRAM单元电路,其特征在于,
在保持状态下,字线WL、位线BL与位线BLB、以及读字线RWL为低电平,NMOSFET晶体管N7与N8、以及NTFET晶体管N3、N4与N5均处于关闭状态;
当SRAM单元电路进行写0操作时,字线WL置为高电平,位线BL置为N伏,位线BLB与读字线RWL保持原状态0不变,即可完成写0操作;当SRAM单元电路进行写1操作时,字线WL置为高电平,位线BLB置为N伏,位线BL与读字线RWL保持原状态0不变,即可完成写1操作;
当单元读操作时,字线WL、位线BL与BLB为低电平0,读字线RWL置为高电平,若SRAM单元电路存储为0,则读位线RBL通过NTFET晶体管N5与N6放电,否则读位线RBL仍为高电平,SRAM阵列中的灵敏放大器通过检测读位线RBL电平变化实现对SRAM单元电路存储数据的读取,完成读操作。
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