[发明专利]基板处理设备和喷嘴单元

权利要求书

1.一种用于处理基板的设备，所述设备包括：

处理容器，其内部具有处理空间；

基板支撑单元，其被构造成支撑所述处理容器中的所述基板并且使所述基板在所述处理容器中旋转；和

喷嘴单元，其被构造成将处理液体分配到所述基板上，

其中所述喷嘴单元包括：

喷嘴，其被构造成分配所述处理液体；和

紫外线(UV)光供应单元，其被构造成发射UV光以活化分配在所述基板上的所述处理液体的自由基。

2.根据权利要求1所述的设备，其中所述喷嘴单元进一步包括：

臂，所述喷嘴和所述UV光供应单元安装在所述臂上；和

臂致动器，其被构造成使所述臂移动。

3.根据权利要求2所述的设备，其中所述UV光供应单元包括：

灯管，其在其相对的两端处气密地密封以在内部形成放电空间；和

一对连接器，其安装在所述灯管的所述相对的两端上且包括灯丝，且

其中所述灯管具有U形形状，所述U形形状包括平行于所述基板的水平部分以及从所述水平部分的相对的两端竖直向上延伸的竖直部分，所述连接器安装在所述竖直部分上。

4.根据权利要求3所述的设备，其中所述臂包括灯安装部件，所述灯安装部件具有接收空间，所述UV光供应单元被接收在所述接收空间中，且

其中所述接收空间在面向所述基板的底部处开口，且所述灯管的所述水平部分位于所述开口的底部处。

5.根据权利要求3所述的设备，其中所述灯管由透射从所述灯管发射的UV光的材料形成。

6.根据权利要求3所述的设备，其中所述灯管由包含石英玻璃的材料形成。

7.根据权利要求3所述的设备，其中所述UV光供应单元进一步包括：

反射器，其被构造成将所述灯管发射的UV光朝向所述基板引导。

8.根据权利要求7所述的设备，其中所述反射器包括由平坦表面或弯曲表面形成的反射表面。

9.根据权利要求3所述的设备，其中所述UV光供应单元进一步包括：

灯保护管，其安装在所述灯管上以包围并且保护所述灯管。

10.根据权利要求1所述的设备，其中所述处理液体包括臭氧水或去离子水。

11.一种喷嘴单元，其包括：

臂；

喷嘴，其与所述臂组合并且被构造成将处理液体分配到基板上；和

UV灯，其与所述臂组合并且被构造成发射UV光以活化分配在所述基板上的所述处理液体的自由基，

其中所述UV灯包括朝向所述基板暴露的灯管以及安装在所述灯管的相对的两端上的连接器，且所述连接器位于与外部隔离密封的空间中。

12.根据权利要求11所述的喷嘴单元，其中所述灯管具有U形形状，所述U形形状包括与所述连接器连接的竖直部分以及平行于所述基板的表面并从所述竖直部分延伸的水平部分。

13.根据权利要求12所述的喷嘴单元，其中所述连接器被接收在形成于所述臂上的灯安装部件的接收空间中而受到保护以免于分配到所述基板上的所述处理液体影响。

14.根据权利要求13所述的喷嘴单元，其中所述接收空间包括第一空间和第二空间，所述灯管位于所述第一空间中，所述连接器位于所述第二空间中，

其中所述第一空间和所述第二空间通过分隔壁彼此分隔，且

其中所述第一空间在面向所述基板的一侧处开口。

15.根据权利要求14所述的喷嘴单元，其中所述水平部分通过所述第一空间的开口的一侧而暴露。