[发明专利]一种抛光粉及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201910606633.X 申请日: 2019-07-06
公开(公告)号: CN110256970A 公开(公告)日: 2019-09-20
发明(设计)人: 张俊生 申请(专利权)人: 深圳市瑞来稀土材料有限公司
主分类号: C09G1/02 分类号: C09G1/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518108 广东省深圳市宝安*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 抛光粉 金刚石微粉 滑石粉 研磨 氟化液 粉体 制备 球磨机 焙烧 二次研磨 氟化处理 干燥处理 去离子水 筛分处理 氟化物 重量份 粒径
【说明书】:

发明涉及一种抛光粉及其制备方法,该抛光粉中REO/M=85‑95%,按重量份包括以下组分:CeO2/REO=50‑92%、La2O3/REO=0‑50%、Pr6O11/REO=0‑5%、Nd2O3/REO=0‑5%、Y2O3/REO=0‑5%、金刚石微粉/M=0‑10%以及滑石粉/M=0‑5%;具体步骤包括:S1.将CeO2、La2O3、Pr6O11、Nd2O3、Y2O3以及去离子水投入球磨机中研磨,制得浆液;S2.向浆液中加入氟化物以对浆液进行氟化处理,制得氟化液;S3.对氟化液进行干燥处理,制得一级粗成品;S4.对一级粗成品进行焙烧处理,制得二级粗成品;S5.对二级粗成品进行二次研磨处理,在研磨过程中加入金刚石微粉以及滑石粉,制得三级粗成品;S6.对三级粗成品进行粒径筛分处理,得到成品粉体。本发明具有提升抛光粉粉体品质的效果。

技术领域

本发明涉及有色金属的技术领域,尤其是涉及一种抛光粉及其制备方法。

背景技术

我国的稀土储量及产量均居世界第一,但是稀土生产过程中伴随着较多的污染,随着我国环境保护要求的不断提升和国内对稀土资源日益增强的保护意识,稀土的供求关系逐渐向供方转移。工业上常使用稀土材料制备抛光粉,抛光粉的抛光机理是利用抛光粉与玻璃等晶体材料表面接触产生的摩擦,使光学玻璃的表面达到工艺要求的平整度,从而降低光学玻璃表面的不规则对光的透射或反射造成的不良影响。现有的抛光粉主要为铈基氧化物抛光粉,按铈含量一般分为低铈抛光粉、中铈抛光粉以及高铈抛光粉。铈基氧化物抛光粉的主要抛光成分为CeO2,而辅助材料例如La2O3等没有抛光性能,但是La2O3的存在能够大大提高稀土抛光粉中CeO2的抛光性能,因此辅助材料也是制备抛光粉时必不可少的成分。

现有的抛光粉在对玻璃等晶体材料进行表面抛光时,由于抛光粉本身的品质良莠不齐,容易导致晶体等材料表面不平整、抛光效率低。

发明内容

本发明的目的是提供一种抛光粉及其制备方法,其具有提高抛光粉粉体品质的效果。

本发明的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的:一种抛光粉,该抛光粉中REO/M=85-95%,按质量分数包括以下组分:CeO2/REO=50-92%、La2O3/REO=0-50%、Pr6O11/REO=0-5%、Nd2O3/REO=0-5%、Y2O3/REO=0-5%、金刚石微粉/M=0-10%以及滑石粉/M=0-5%。

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