[发明专利]高频放大电路及半导体装置在审

专利信息
申请号: 201910614889.5 申请日: 2019-07-09
公开(公告)号: CN111541426A 公开(公告)日: 2020-08-14
发明(设计)人: 濑下敏树;栗山保彦 申请(专利权)人: 株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社
主分类号: H03F3/189 分类号: H03F3/189;H03F1/26
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 刘英华
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 高频 放大 电路 半导体 装置
【权利要求书】:

1.一种高频放大电路,具备:

第1放大电路,将第1晶体管与栅极接地的第3晶体管级联连接而成,该第1晶体管的源极经由第1源极电感器而接地且栅极被施加输入信号,该第3晶体管从漏极输出将从上述第1晶体管的漏极输出的信号放大后的信号;

第2放大电路,将第2晶体管及栅极接地的第4晶体管级联连接而成,并具有与上述第1放大电路相同的电路常数,该第2晶体管的源极经由第2源极电感器而接地且栅极被施加上述输入信号,该第4晶体管从漏极输出将从上述第2晶体管的漏极输出的信号放大后的信号;以及

噪声指数改善电路,将上述第1晶体管的源极及上述第2晶体管的源极经由电容器而连接,

上述高频放大电路具备:单一输出模式,从上述第1放大电路及上述第2放大电路中的一方输出上述放大后的信号;及分路输出模式,从上述第1放大电路及上述第2放大电路中的双方输出上述放大后的信号。

2.如权利要求1所述的高频放大电路,其中,还具备:

第1开关,被连接在上述第1源极电感器与上述第1晶体管之间,在从上述第1放大电路输出上述放大后的信号的情况下接通,在从上述第1放大电路不输出上述放大后的信号的情况下断开;

第2开关,被连接在上述第2源极电感器与上述第2晶体管之间,在从上述第2放大电路输出上述放大后的信号的情况下接通,在从上述第2放大电路不输出上述放大后的信号的情况下断开,

上述噪声指数改善电路,被连接在上述第1晶体管与上述第1开关之间、以及上述第2晶体管与上述第2开关之间。

3.如权利要求1所述的高频放大电路,其中,还具备:

第1开关,被连接在上述第1源极电感器与上述第1晶体管之间,在从上述第1放大电路输出上述放大后的信号的情况下接通,在从上述第1放大电路不输出上述放大后的信号的情况下断开;

第2开关,被连接在上述第2源极电感器与上述第2晶体管之间,在从上述第2放大电路输出上述放大后的信号的情况下接通,在从上述第2放大电路不输出上述放大后的信号的情况下断开,

上述噪声指数改善电路,被连接在上述第1开关与上述第1源极电感器之间、以及上述第2开关与上述第2源极电感器之间。

4.如权利要求1所述的高频放大电路,其中,

上述噪声指数改善电路的电容器,形成将在上述第2晶体管的源极感应出的杂音电压向上述第1晶体管的栅极传递的噪声传递路径,并且,电容值被设定为,经由上述噪声传递路径的噪声的相位相对于不经由上述噪声传递路径而向上述第1晶体管的栅极传递的噪声的相位偏移180°。

5.如权利要求1所述的高频放大电路,其中,

上述噪声指数改善电路,在上述分路输出模式的情况下被设为有效,在上述单一输出模式的情况下被设为无效。

6.如权利要求5所述的高频放大电路,其中,

上述噪声指数改善电路具备噪声指数改善元件、噪声指数改善电路第1切换开关、噪声指数改善电路第2切换开关,

上述噪声指数改善电路第1切换开关设置在上述第1放大电路与上述噪声指数改善元件之间,且具备如下晶体管,该晶体管在上述第1单一输出模式及上述第2单一输出模式中断开、且在上述分路输出模式中接通、且与上述第1晶体管的栅极氧化膜厚、栅极长度及阈值电压分别相等,

上述噪声指数改善电路第2切换开关设置在上述第2放大电路与上述噪声指数改善元件之间,且具备如下晶体管,该晶体管在上述第1单一输出模式及上述第2单一输出模式中断开、且在上述分路输出模式中接通、且与上述第2晶体管的栅极氧化膜厚、栅极长度及阈值电压分别相等,

上述噪声指数改善元件被设置为,与没有该噪声指数改善元件的情况相比较,上述分路输出模式中的噪声指数与上述第1单一输出模式或者上述第2单一输出模式中的噪声指数之差变小。

7.如权利要求1所述的高频放大电路,其中,

还具备隔离改善电路,

该隔离改善电路将上述第3晶体管的漏极及上述第4晶体管的漏极经由将电容器与电阻串联地连接而成的电路而连接。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社,未经株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910614889.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top