[发明专利]处理图像的方法在审

专利信息
申请号: 201910618740.4 申请日: 2019-07-10
公开(公告)号: CN110702231A 公开(公告)日: 2020-01-17
发明(设计)人: L.奇西 申请(专利权)人: 施耐德电器工业公司
主分类号: G01J5/00 分类号: G01J5/00
代理公司: 11105 北京市柳沈律师事务所 代理人: 郝东晖
地址: 法国吕埃*** 国省代码: 法国;FR
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摘要:
搜索关键词: 掩蔽 测辐射热计 原始测量 检测器 参考测量 关系确定 计算掩蔽 校正测量 校正图像 原始图像 校准 减去 掩模 校正 并用 参考
【权利要求书】:

1.一种由计算单元执行的用于处理原始图像的方法,其特征在于,原始测量S_(i,j)由检测器(1)的根据n行(Li)和m列(Cj)以矩阵方式布置的测辐射热计Pix_(i,j)收集,并且,所述测辐射热计Pix_(i,j)包括暴露的测辐射热计(Pix_exp_(i,j))和被遮住的掩蔽的测辐射热计(Pix_mask_(i,j)),该方法包括:

a)计算与掩蔽的测辐射热计(Pix_mask_(i,j))相关的掩蔽项S_mask_norm_(i,j),该计算包括从给定列(Cj)的每个掩蔽的测辐射热计(Pix_mask_(i,j))的原始测量S_(i,j)中减去所述列的掩蔽的测辐射热计的原始测量S_(i,j)的平均值;

b)使掩蔽项S_mask_norm_(i,j)与掩蔽的测辐射热计(Pix_mask_(i,j))的校准分量S_mask_cal_(i,j)之间相关,根据以下关系确定:

所述项S_mask_ref_(i,j)是在参考温度(Tr)下并且通过用也保持在参考温度(Tr)的掩蔽件来掩蔽检测器获得的掩蔽测辐射热计参考测量(Pix_mask_(i,j));

c)校正原始图像的步骤,该步骤包括基于相关步骤b)的结果来计算每个测辐射热计(Pix_(i,j)的校正图像的校正测量S_Cor_(i,j)。

2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述检测器包括专用于保存校准分量S_mask_cal_(i,j)的存储空间。

3.根据权利要求1或2所述的方法,其中,所述相关步骤b)包括线性回归,使得每个掩蔽项S_mask_norm_(i,j)和校准分量S_mask_cal_(i,j)满足以下关系:

S_mask_norm_(i,j)=β.S_mask_cal_(i,j)+Doffset

其中β和Doffset是线性回归期间确定的项。

4.根据权利要求3所述的方法,其中,所述校正步骤c)包括根据以下关系计算每个测辐射热计(Pix_(i,j))的校正测量S_Cor_(i,j):

S_Cor_(i,j)=S_(i,j)-β.S_cal_(i,j)-Doffset

其中,对于给定的辐射热计(Pix_(i,j)),S_cal_(i,j)是根据以下关系确定的校准分量:

项S_ref_(i,j)是在参考温度(Tr)下并且通过用也保持在参考温度(Tr)的掩蔽件来掩蔽检测器的测辐射热计(Pix_(i,j))的参考测量。

5.根据权利要求4所述的方法,其中,所述校准分量S_cal_(i,j)保存在检测器的存储空间中。

6.根据权利要求4或5所述的方法,其中,所述方法还包括以下步骤:

d)对于列(Cj)中的每一列,计算对应于所考虑的列的掩蔽的测辐射热计Pix_mask_(i,j)的测量S_(i,j)的平均值的列项Col_mask_(j);

e)使列项Col_mask_(j)和掩蔽的测辐射热计(Pix_mask_(i,j))的校准坐标C_mask_cal_(j)之间相关,根据以下关系确定:

f)将校正图像附加校正以形成最终图像,附加校正包括:

基于校正测量S_Cor_(i,j)并且基于相关步骤e)的结果来计算最终图像的最终测量S_fin_(i,j)。

7.根据权利要求6所述的方法,其中,所述相关步骤e)包括线性回归,使得列项Col_mask_(j)和校准坐标C_mask_cal_(j)满足以下关系:

Col_mask_(j)=α.C_mask_cal_(j)+Coloffset

其中α和Coloffset是线性回归期间确定的项。

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