[发明专利]一种光罩有效
申请号: | 201910621137.1 | 申请日: | 2019-07-10 |
公开(公告)号: | CN110333642B | 公开(公告)日: | 2022-07-19 |
发明(设计)人: | 叶国梁;刘天建;占迪 | 申请(专利权)人: | 武汉新芯集成电路制造有限公司 |
主分类号: | G03F1/42 | 分类号: | G03F1/42 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅 |
地址: | 430205 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 | ||
1.一种光罩,其特征在于,包括:有效区域与边缘区域,所述边缘区域位于所述有效区域部分侧边的边缘,在所述边缘区域与未设置所述边缘区域的有效区域内均设置有相间隔的当层对准精度图形,以用于量测相邻所述光罩的对准精度。
2.如权利要求1所述的光罩,其特征在于,所述当层对准精度图形为组合式图形,由多个子对准精度图形组合而成。
3.如权利要求2所述的光罩,其特征在于,所述当层对准精度图形包含两个子对准精度图形,两个所述子对准精度图形存在区别,且不同位置处的所述当层对准精度图形中的两个所述子对精度准图形的相对位置并不相同。
4.如权利要求3所述的光罩,其特征在于,所述光罩呈正方形、长方形或菱形。
5.如权利要求4所述的光罩,其特征在于,所述边缘区域位于所述有效区域的一相邻侧边的边缘。
6.如权利要求5所述的光罩,其特征在于,所述光罩形成有四组当层对准精度图形,且四组所述当层对准精度图形位于所述光罩的四角。
7.如权利要求6所述的光罩,其特征在于,两个所述子对准精度图形的形状或/和尺寸不同。
8.如权利要求7所述的光罩,其特征在于,两个所述子对准精度图形均呈正方形,其尺寸不同。
9.如权利要求8所述的光罩,其特征在于,相邻所述当层对准精度图形中的两个所述子对准精度图形的相对位置呈顺时针方向或逆时针方向移动90度。
10.如权利要求9所述的光罩,其特征在于,所述当层对准精度图形所在区域的面积相同,将所述当层对准精度图形所在区域呈“田”字型均匀划分为四份,两个所述子对准精度图形仅占其中任意相邻的两份。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备