[发明专利]一种用于化学气相沉积硅基薄膜钝化层的托盘结构及其制作方法

权利要求书

1.一种用于化学气相沉积硅基薄膜钝化层的托盘结构，其特征在于，包括托盘四周的托盘顶部(11)和托盘口袋底部(17)，所述托盘口袋底部(17)四周倒角设置有斜边(12)，所述斜边(12)外侧与所述托盘顶部(11)内侧相邻，所述斜边(12)上设置有若干个定位点(14)，所述斜边(12)内侧相邻设置有四周支撑结构(13)，所述四周支撑结构(13)内侧与所述托盘口袋底部(17)边缘相邻，所述托盘口袋底部(17)开设有若干个导气孔(15)。

2.根据权利要求1所述的一种用于化学气相沉积硅基薄膜钝化层的托盘结构，其特征在于，所述导气孔(15)与所述托盘口袋底部(17)所在平面成一定角度，该角度在10-90°之间。

3.根据权利要求1所述的一种用于化学气相沉积硅基薄膜钝化层的托盘结构，其特征在于，所述斜边(12)的斜面与所述托盘口袋底部(17)所在平面之间的夹角在10～85°之间。

4.根据权利要求1所述的一种用于化学气相沉积硅基薄膜钝化层的托盘结构，其特征在于，所述定位点(14)设置于所述斜边(12)的斜面上，所述定位点(14)的结构为圆柱形、椭圆柱型、三角形或者方形。

5.根据权利要求4所述的一种用于化学气相沉积硅基薄膜钝化层的托盘结构，其特征在于，所述定位点(14)在所述斜边(12)长度方向上的尺寸小于10mm，且，所述定位点(14)与所述托盘口袋底部(17)所在平面之间的夹角大于所述斜边(12)的斜面与所述托盘口袋底部(17)所在平面之间的夹角。

6.根据权利要求1所述的一种用于化学气相沉积硅基薄膜钝化层的托盘结构，其特征在于，所述托盘口袋底部(17)中部设置有中央支撑结构(16)。

7.根据权利要求6所述的一种用于化学气相沉积硅基薄膜钝化层的托盘结构，其特征在于，所述中央支撑结构(16)的形状为点状、线状或面状，且所述中央支撑结构(16)与所述托盘口袋底部(17)的接触面积小于10mm2。

8.根据权利要求7所述的一种用于化学气相沉积硅基薄膜钝化层的托盘结构，其特征在于，所述四周支撑结构(13)和所述中央支撑结构(16)与所述托盘口袋底部(17)的接触面积之和小于所述托盘口袋底部(17)面积的10％。

9.根据权利要求6所述的一种用于化学气相沉积硅基薄膜钝化层的托盘结构，其特征在于，所述四周支撑结构(13)和所述中央支撑结构(16)的高度均小于1mm。

10.一种用于化学气相沉积硅基薄膜钝化层的托盘结构制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1：提供一个任意材质的托盘，在该托盘的表面开凿一个口袋凹槽，该口袋凹槽四周预留有一定长度的限位边，所述口袋凹槽底部为托盘口袋底部(17)，所述限位边为托盘顶部(11)；

S2：将口袋凹槽四周预留的一定长度限位边的内侧部分倒边加工为斜边(12)；

S3：在斜边(12)上设置若干个定位点(14)；

S4：在斜边(12)的内侧设置一圈四周支撑结构(13)；

S5：在托盘口袋底部(17)开设若干个导气孔(15)。