[发明专利]一种较高精度铜带的公差控制方法在审

专利信息
申请号: 201910628435.3 申请日: 2019-07-12
公开(公告)号: CN110253229A 公开(公告)日: 2019-09-20
发明(设计)人: 汤亮 申请(专利权)人: 汤亮
主分类号: B23P15/00 分类号: B23P15/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 241000 安徽省*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 铜带 高精度铜带 公差控制 退火 凹凸不平 表面平整 长度控制 尺寸变化 氮气保护 钝化处理 空气反应 公差 剪切 保证 铣面
【权利要求书】:

1.一种较高精度铜带的公差控制方法,包括以下步骤:

(1)、将铜、铁、磷原材料按照一定的比例混合进行铸造,然后进行连续铸造卷坯;

(2)、将卷坯冷初轧Φ260/Φ500轧至1.9mm,退火操作;

(3)、四辊轧机轧制0.46mm,退火操作;

(4)、四辊冷轧Φ120/Φ410*410mm扎至0.3mm;

(5)、拉弯矫直操作;

(6)、脱脂纯化,剪切;

(7)、检查是否合格;

(8)、包装。

2.根据权利要求1所述的一种较高精度铜带的公差控制方法,其特征在于:步骤(1)中铁含量为0.05%,磷含量为0.025%,其余为铜。

3.根据权利要求1所述的一种较高精度铜带的公差控制方法,其特征在于:步骤(2)需对卷坯利用铣面机进行双面铣面。

4.根据权利要求1所述的一种较高精度铜带的公差控制方法,其特征在于:步骤(2)中退火温度480℃,在有保护气的环境下操作6小时,保护气为氮气。

5.根据权利要求1所述的一种较高精度铜带的公差控制方法,其特征在于:步骤(3)中退火温度370℃,在有保护气的环境下操作6小时,保护气为氮气。

6.根据权利要求1所述的一种较高精度铜带的公差控制方法,其特征在于:步骤(6)中纵剪的尺寸为30-60mm±0.1。

7.根据权利要求1所述的一种较高精度铜带的公差控制方法,其特征在于:步骤(6)中采用苯并三氮唑(BTA)作为钝化剂,保护铜带的表面。

8.根据权利要求1所述的一种较高精度铜带的公差控制方法,其特征在于:检测标准为δb=392~440MPa、δ≥4.5%、Hv≥115、导电率≥82%IACS。

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