[发明专利]掩模装置的制造装置

权利要求书

1.一种掩模装置的制造装置，所述掩模装置是将掩模固定在框架上而成的，所述掩模装置的制造装置的特征在于，包括：

工作台，其包括用于保持所述框架的框架保持工作台和具有多个升降销的对准工作台；

保持部，其用于保持与所述工作台相对地配置的基准板；

掩模保持单元，其配置在所述工作台与所述基准板之间，用于保持所述掩模；和

用于透过所述基准板对所述工作台的方向进行拍摄的摄像机，

所述掩模保持单元包括能够利用磁力来固定所述掩模的磁铁，

所述掩模保持单元能够将所述掩模以位于所述工作台与所述磁铁之间的方式保持，

所述掩模保持单元能够通过所述多个升降销的动作在所述对准工作台上升降，

所述多个升降销包括能够与所述掩模保持单元接触的多个第一升降销，

所述摄像机对形成在所述掩模上的第一基准标记和形成在所述基准板上的第二基准标记进行拍摄。

2.如权利要求1所述的掩模装置的制造装置，其特征在于：

所述多个第一升降销配置在所述框架的外侧，能够相对于所述对准工作台升降，从而使所述掩模保持单元在所述对准工作台上升降。

3.如权利要求1所述的掩模装置的制造装置，其特征在于：

所述多个第一升降销彼此同步地升降。

4.如权利要求1所述的掩模装置的制造装置，其特征在于：

所述多个升降销还包括能够与所述掩模接触的多个第二升降销。

5.如权利要求4所述的掩模装置的制造装置，其特征在于：

所述框架具有开口，

所述多个第二升降销配置在所述框架的开口的内侧，能够相对于所述对准工作台升降，从而使所述掩模在所述对准工作台上升降。

6.如权利要求4所述的掩模装置的制造装置，其特征在于：

所述多个第二升降销彼此同步地升降。

7.如权利要求4所述的掩模装置的制造装置，其特征在于：

所述多个第一升降销相对于所述对准工作台的升降范围大于所述多个第二升降销相对于所述对准工作台的升降范围。

8.如权利要求1所述的掩模装置的制造装置，其特征在于：

所述框架保持工作台与所述对准工作台隔开间隙地配置，

所述对准工作台能够在所述间隙中移动。

9.如权利要求1所述的掩模装置的制造装置，其特征在于：

所述多个升降销能够在所述掩模保持单元利用所述磁力保持所述掩模的状态下，以从相对于所述掩模与所述磁铁相反的一侧将所述掩模向上推的方式进行升降。

10.如权利要求9所述的掩模装置的制造装置，其特征在于：

所述掩模保持单元包括电磁铁。

11.如权利要求10所述的掩模装置的制造装置，其特征在于：

所述电磁铁的面积小于所述掩模的面积。

12.如权利要求10所述的掩模装置的制造装置，其特征在于：

所述掩模保持单元在所述掩模与所述电磁铁之间还包括接触板。

13.如权利要求12所述的掩模装置的制造装置，其特征在于：

所述接触板与所述掩模接触的面是平坦的。

14.如权利要求1所述的掩模装置的制造装置，其特征在于：

所述掩模与所述掩模保持单元接触的面是平坦的。

15.如权利要求1所述的掩模装置的制造装置，其特征在于：

所述工作台包括多个所述对准工作台，

在所述工作台与所述基准板之间配置有多个所述掩模保持单元，用于保持多个所述掩模。