[发明专利]掩模结构及其制造方法及工作件加工系统

说明书

本揭露涉及掩模结构及其制造方法及工作件加工系统。一种掩模结构包括衬底、第一图案化金属层以及第二图案化金属层。衬底具有第一表面和与第一表面相对的第二表面。第一图案化金属层设置在衬底的第一表面上，具有复数个第一开口，第一开口具有第一侧壁。第二图案化金属层设置在衬底的第二表面上，具有复数个第二开口，第二开口具有第二侧壁。衬底具有复数个通孔，通孔具有第三侧壁，通孔对应第一开口和第二开口设置，且第三侧壁与第一侧壁和第二侧壁构成连续平面。

技术领域

本公开是有关一种掩模结构及其制造方法及工作件加工系统，详细来说，是一种多层结构的掩模及其制造方法及其应用的工作件加工系统。

背景技术

在制造显示器等电子产品时，通常会在部分制程中使用掩模(mask)，例如金属掩模，使得电子产品上的各个装置可以设置在预定位置。然而，在金属掩模中，由于金属对于应力的承受力较低，因此，当金属掩模受到应力影响，或有应力残留于金属掩模中时，或是金属掩模的孔洞越来越多时，会使得金属掩模产生皱褶、弯曲、翘曲等不良情况，进而影响电子产品的生产良率，例如所制造的显示器会造成严重混色。为了减少应力对于金属掩模的影响，业界尝试增加金属掩模的孔洞间距，藉此提升金属掩模的结构稳定度，但相对的，显示器的分辨率也随之下降。

发明内容

本发明的目的之一在于提供一种掩模结构及其制造方法，其具有衬底和至少两个金属层的结构，使得其在结构稳定性增加的同时，也增加其分辨率。本发明的目的之一在于提供一种工作件加工系统，其利用掩模结构提高所生产的电子产品的质量。根据本公开的一些实施例，一种掩模结构包括衬底、第一图案化金属层以及第二图案化金属层。所述衬底具有第一表面和与所述第一表面相对的第二表面。所述第一图案化金属层设置在所述衬底的所述第一表面上，具有复数个第一开口，所述第一开口具有第一侧壁。所述第二图案化金属层设置在所述衬底的所述第二表面上，具有复数个第二开口，所述第二开口具有第二侧壁。所述衬底具有复数个通孔，所述通孔具有第三侧壁，所述通孔对应所述第一开口和所述第二开口设置，且所述第三侧壁与所述第一侧壁和所述第二侧壁构成连续平面。

根据本公开的一些实施例，所述第一侧壁具有第一斜率，所述第二侧壁具有第二斜率，所述第三侧壁具有第三斜率，其中所述第一斜率等于所述第三斜率，且所述第三斜率等于所述第二斜率。

根据本公开的一些实施例，所述通孔的所述第三侧壁垂直于所述第一表面。

根据本公开的一些实施例，所述通孔的所述第三侧壁沿着与所述第一表面垂直的方向与所述第一开口的所述第一侧壁和所述第二开口的所述第二侧壁重叠。

根据本公开的一些实施例，所述第三侧壁与所述第一表面之间具有大于90度的夹角。

根据本公开的一些实施例，所述第一开口大于所述通孔，且所述通孔大于所述第二开口。

根据本公开的一些实施例，一种工作件加工系统，所述工作件加工系统包括所述掩模结构，所述工作件加工系统用于对工作件进行加工，其中所述加工包括产生材料层的粒子，所述粒子通过所述掩模结构沉积于所述工作件上形成材料薄膜以完成所述加工，其特征在于，所述粒子通过所述掩模结构的所述第一开口、所述通孔和所述第二开口以沉积于所述工作件上。

根据本公开的一些实施例，一种制造掩模结构的方法，其特征在于，所述方法包括：提供衬底，所述衬底具有第一表面和与第一表面相对的第二表面；于所述衬底的所述第一表面上形成第一金属层，并于所述衬底的所述第二表面上形成第二金属层；及将所述衬底、所述第一金属层和所述第二金属层进行通孔制程，使所述衬底具有复数个通孔、所述第一金属层具有复数个第一开口及所述第二金属层具有复数个第二开口，其中所述第一开口的第一侧壁、所述第二开口的第二侧壁和所述通孔的第三侧壁构成连续平面。

根据本公开的一些实施例，所述第一金属层和所述第二金属的形成方法包括化学沉积工艺、电镀工艺或附接工艺。