[发明专利]刻蚀机防止撞片的检测方法及系统有效
申请号: | 201910638720.3 | 申请日: | 2019-07-16 |
公开(公告)号: | CN112242313B | 公开(公告)日: | 2021-11-16 |
发明(设计)人: | 陈明俊;徐雷;张军 | 申请(专利权)人: | 上海先进半导体制造有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 卢炳琼 |
地址: | 200233 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 刻蚀 防止 检测 方法 系统 | ||
1.一种刻蚀机防止撞片的检测系统,所述刻蚀机包括机台、主工艺腔、出口腔、圆晶片接收装置、出口腔内门和出口腔传送手臂,所述出口腔传送手臂位于所述出口腔内,用于从所述主工艺腔中取出圆晶片,并传送至所述圆晶片接收装置;所述出口腔内门位于所述主工艺腔和所述出口腔之间,用于封闭所述主工艺腔;所述出口腔内门包括一开门电磁阀回路,用于开启所述出口腔内门,所述开门电磁阀回路还包括一电压输出引脚,当所述电压输出引脚输出高电平信号而所述开门电磁阀回路断开时所述机台会停机;其特征在于,所述刻蚀机防止撞片的检测系统包括探测器、第一辅助继电器,所述探测器包括一控制引脚,所述控制引脚连接所述第一辅助继电器的线圈,所述第一辅助继电器的常闭触点接入所述开门电磁阀回路;
所述出口腔传送手臂准备进入所述主工艺腔前,所述电压输出引脚输出高电平信号;
所述探测器用于在所述出口腔传送手臂准备进入所述主工艺腔前探测所述出口腔传送手臂上是否有圆晶片;
若是,则所述控制引脚输出控制信号,所述控制信号用于接通所述第一辅助继电器的线圈;
所述第一辅助继电器用于在所述第一辅助继电器的线圈接通时断开所述第一辅助继电器的常闭触点,断开所述开门电磁阀回路;
所述机台停机。
2.如权利要求1所述的刻蚀机防止撞片的检测系统,其特征在于,所述刻蚀机防止撞片的检测系统还包括第二辅助继电器,所述第二辅助继电器的常开触点与所述第一辅助继电器的常闭触点并联,接入所述开门电磁阀回路;在所述出口腔内门正常打开后,所述第二辅助继电器用于接通所述第二辅助继电器的常开触点。
3.如权利要求1所述的刻蚀机防止撞片的检测系统,其特征在于,所述探测器为红外探测器。
4.如权利要求1所述的刻蚀机防止撞片的检测系统,其特征在于,所述机台停机的同时所述机台报警。
5.一种刻蚀机防止撞片的检测方法,其特征在于,其利用如权利要求1所述的刻蚀机防止撞片的检测系统实现,所述刻蚀机防止撞片的检测方法包括以下步骤:
所述出口腔传送手臂准备进入所述主工艺腔前,所述电压输出引脚输出高电平信号;
所述探测器探测所述出口腔传送手臂上是否有圆晶片,若是则执行以下步骤:
输出控制信号,所述控制信号接通所述第一辅助继电器的线圈;
所述第一辅助继电器的线圈接通时断开所述第一辅助继电器的常闭触点;
所述机台停机。
6.如权利要求5所述的刻蚀机防止撞片的检测方法,其特征在于,所述刻蚀机防止撞片的检测系统还包括第二辅助继电器,所述第二辅助继电器的常开触点与所述第一辅助继电器的常闭触点并联,接入所述开门电磁阀回路;所述出口腔内门正常打开后,接通所述第二辅助继电器的常开触点。
7.如权利要求5所述的刻蚀机防止撞片的检测方法,其特征在于,所述探测器为红外探测器。
8.如权利要求5所述的刻蚀机防止撞片的检测方法,其特征在于,所述机台停机的同时所述机台发出报警。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造