[发明专利]一种纳米压印模板及其制备方法

权利要求书

1.一种纳米压印模板，其特征在于，所述纳米压印模板包括：柔性基板，位于所述柔性基板之上的通过第一贴合胶与柔性基板粘结的对位功能层，以及位于所述对位功能层之上的粘结层；所述对位功能层具有对位标记图案。

2.根据权利要求1所述的纳米压印模板，其特征在于，所述对位功能层包括：超薄玻璃层，以及对位标记结构；所述对位标记结构位于所述超薄玻璃层靠近所述柔性基板的一侧，或者所述对位标记结构位于所述超薄玻璃层背离所述柔性基板的一侧。

3.根据权利要求1所述的纳米压印模板，其特征在于，所述纳米压印模板还包括：位于所述对位功能层与所述粘结层之间的增粘层。

4.根据权利要求3所述的纳米压印模板，其特征在于，所述增粘层包括第二贴合胶；或者，所述增粘层包括：第三贴合胶，以及通过第三贴合胶与所述对位功能层粘结的高分子材料层。

5.根据权利要求1所述的纳米压印模板，其特征在于，所述纳米压印模板还包括：位于所述粘结层之上的保护层。

6.根据权利要求1所述的纳米压印模板，其特征在于，所述纳米压印模板还包括：位于所述粘结层之上的纳米压印微结构。

7.一种纳米压印模板的制备方法，其特征在于，所述方法包括：

在柔性基板上形成第一贴合胶；

形成具有对位标记图案的对位功能层；

将所述对位功能层通过所述第一贴合胶与所述柔性基板贴合；

在所述对位功能层之上形成粘结层。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述形成具有对位标记图案的对位功能层具体包括：

将超薄玻璃贴付在衬底玻璃上；

在所述超薄玻璃之上形成氧化硅层；

采用图形化工艺处理所述氧化硅层形成对位标记结构的图案；

剥离所述衬底玻璃。

9.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述在所述对位功能层之上形成粘结层之前，所述方法还包括：

在所述对位功能层背离所述柔性基板一侧形成增粘层。

10.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，在所述对位功能层之上形成粘结层之后，所述方法还包括：在所述粘结层之上形成保护层。

11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，在所述粘结层之上形成保护层之后，所述方法还包括：

将所述保护层撕除；

提供涂覆模板胶的压印母模板，并将所述模板胶与所述粘结层接触，通过压印、固化以及脱模工艺，使得所述模板胶与所述压印模板脱离，且使得所述模板胶与所述粘结层粘结。