[发明专利]一种纳米压印模板及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201910639799.1 申请日: 2019-07-16
公开(公告)号: CN110361930A 公开(公告)日: 2019-10-22
发明(设计)人: 谭伟;刘震;郭康;谷新 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 李欣
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 纳米压印模板 柔性基板 功能层 对位 制备 对位标记 抗形变 贴合胶 粘结层 粘结 申请 图案
【说明书】:

本申请公开了一种纳米压印模板及其制备方法,用以提高纳米压印模板抗形变的能力。本申请实施例提供的一种纳米压印模板,所述纳米压印模板包括:柔性基板,位于所述柔性基板之上的通过第一贴合胶与柔性基板粘结的对位功能层,以及位于所述对位功能层之上的粘结层;所述对位功能层具有对位标记图案。

技术领域

本申请涉及纳米压印技术领域,尤其涉及一种纳米压印模板及其制备方法。

背景技术

纳米压印技术具有高分辨率、工艺简单、成本低、产率高、可大规模生产等优点,成为最具前景的下一代光科技术,在显示、半导体、传感器及医疗健康等领域具有广泛的应用。

现有纳米压印过程中,通过在纳米压印模板与基板的表面分别设计出一定的几何图形作为对位标记,纳米压印模板与基板的对位标记都可以在显微镜下被看到。将纳米压印模板与基板的对位标记对准,以确定纳米压印模板与基板的位置,之后再进行纳米压印工艺。但是,现有技术中的纳米压印模板的杨氏模量较低,容易产生形变,且在压印时由于应力的集中及局部的变形,导致纳米压印模板与基板偏离预设的对准位置。

综上,现有技术中的纳米压印模板容易产生形变,出现对位异常,大大降低了压印对位的精度。

发明内容

本申请实施例提供了一种纳米压印模板及其制备方法,用以提高纳米压印模板抗形变的能力。

本申请实施例提供的一种纳米压印模板,所述纳米压印模板包括:柔性基板,位于所述柔性基板之上的通过第一贴合胶与柔性基板粘结的对位功能层,以及位于所述对位功能层之上的粘结层;所述对位功能层具有对位标记图案。

本申请实施例提供的纳米压印模板,通过设置对位功能层,提高纳米压印模板的刚性,从而提高纳米压印模板抗形变的能力,可以避免对位异常,进而可以提高纳米压印工艺中的对位精度。并且,当利用本申请实施例提供的纳米压印模板在有段差基板上压印时,由于纳米压印模板整体刚性增加,还可以提高纳米压印的平整度。

可选地,所述对位功能层包括:超薄玻璃层,以及对位标记结构;所述对位标记结构位于所述超薄玻璃层靠近所述柔性基板的一侧,或者所述对位标记结构位于所述超薄玻璃层背离所述柔性基板的一侧。

可选地,所述纳米压印模板还包括:位于所述对位功能层与所述粘结层之间的增粘层。

本申请实施例提供的纳米压印模板,由于在对位功能层和粘结层之间设置有增粘层,从而可以增加粘结层与对位功能层之间的粘结力。

可选地,所述增粘层包括第二贴合胶;或者,所述增粘层包括:第三贴合胶,以及通过第三贴合胶与所述对位功能层粘结的高分子材料层。

可选地,所述纳米压印模板还包括:位于所述粘结层之上的保护层。

可选地,所述纳米压印模板还包括:位于所述粘结层之上的纳米压印微结构。

本申请实施例提供的一种纳米压印模板的制备方法,所述方法包括:

在柔性基板上形成第一贴合胶;

形成具有对位标记图案的对位功能层;

将所述对位功能层通过所述第一贴合胶与所述柔性基板贴合;

在所述对位功能层之上形成粘结层。

本申请实施例提供的纳米压印模板制备方法,通过设置对位功能层,提高纳米压印模板的整体刚性,从而提高纳米压印模板抗形变的能力,可以避免对位异常,进而可以提高纳米压印工艺中的对位精度。并且,当利用制得的纳米压印模板在有段差基板上压印时,由于纳米压印模板整体刚性增加,还可以提高纳米压印的平整度。

可选地,所述形成具有对位标记图案的对位功能层具体包括:

将超薄玻璃贴付在衬底玻璃上;

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