[发明专利]缺陷检测方法及缺陷检测系统

权利要求书

1.一种缺陷检测方法，其特征在于，包括：

提供晶圆，所述晶圆包括检测面，所述检测面具有待检测缺陷；

获取所述待检测缺陷的缺陷信息；

根据所述缺陷信息获取拍摄放大倍数；

根据所述拍摄放大倍数对所述待检测缺陷进行拍摄处理，获取检测图像，所述检测图像包括所述待检测缺陷的图像。

2.如权利要求1所述的缺陷检测方法，其特征在于，所述缺陷信息包括：所述待检测缺陷的位置信息和所述待检测缺陷的面积信息。

3.如权利要求2所述的缺陷检测方法，其特征在于，根据所述拍摄放大倍数对所述待检测缺陷进行拍摄处理的方法包括：根据所述位置信息将所述待检测缺陷与拍摄视野进行对准处理，使所述待检测缺陷与所述拍摄视野的中心对准；在进行所述对准处理之后，根据所述拍摄放大倍数进行拍摄。

4.如权利要求2所述的缺陷检测方法，其特征在于，获取所述待检测缺陷的缺陷信息的方法包括：对所述晶圆的检测面进行扫描，获取晶圆图像，所述晶圆图像中具有所述待检测缺陷对应的缺陷图像；对所述晶圆图像进行像素化处理，将所述晶圆图像划分为多个像素块；对所述多个像素块进行检测，获取所述缺陷图像的面积和位置。

5.如权利要求4所述的缺陷检测方法，其特征在于，获取所述缺陷图像的面积的方法包括：获取所述缺陷图像的像素块数量；根据所述缺陷图像的像素块数量与单个所述像素块面积的乘积，获取所述缺陷图像的面积信息。

6.如权利要求2所述的缺陷检测方法，其特征在于，根据所述缺陷信息获取拍摄放大倍数的方法包括：提供拍摄视野面积N和缺陷视野占比常数α；根据所述拍摄视野面积N和缺陷视野占比常数α，获取拍摄放大倍数x＝αN/n，其中n为所述待检测缺陷的面积。

7.如权利要求6所述的缺陷检测方法，其特征在于，所述缺陷视野占比常数α的范围为40％～70％。

8.一种缺陷检测系统，其特征在于，包括：

信息获取单元，用于获取晶圆表面待检测缺陷的缺陷信息；

放大倍数获取单元，用于根据所述缺陷信息获取拍摄放大倍数；

图像获取单元，用于根据所述拍摄放大倍数对所述待检测缺陷进行拍摄，获取检测图像，所述检测图像包括放大后的所述待检测缺陷的图像。

9.如权利要求8所述的缺陷检测系统，其特征在于，所述缺陷信息包括：所述待检测缺陷的位置信息和所述待检测缺陷的面积信息。

10.如权利要求8所述的缺陷检测系统，其特征在于，所述信息获取单元包括：扫描模块，用于对所述晶圆的检测面进行扫描，获取晶圆图像，所述晶圆图像中具有若干所述待检测缺陷对应的若干缺陷图像；

像素化模块，用于对所述晶圆图像进行像素化处理，将所述晶圆图像划分为多个像素块；

检测模块，用于对所述多个像素块进行检测，获取每个所述缺陷图像的面积和位置。

11.如权利要求9所述的缺陷检测系统，其特征在于，所述图像获取单元包括：对准模块，用于根据所述位置信息将所述待检测缺陷与拍摄视野进行对准处理，使所述待检测缺陷与所述拍摄视野的中心对准；

拍摄模块，用于在进行所述对准处理之后，根据所述拍摄放大倍数进行拍摄。