[发明专利]MRAM阵列的测试电路有效

专利信息
申请号: 201910663110.9 申请日: 2019-07-22
公开(公告)号: CN112259153B 公开(公告)日: 2022-06-24
发明(设计)人: 熊保玉;刘少鹏;何世坤 申请(专利权)人: 中电海康集团有限公司;浙江驰拓科技有限公司
主分类号: G11C29/56 分类号: G11C29/56
代理公司: 北京兰亭信通知识产权代理有限公司 11667 代理人: 孙峰芳
地址: 311121 浙江省杭州*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: mram 阵列 测试 电路
【说明书】:

发明提供一种MRAM阵列的测试电路,包括:字线译码器、行选择器以及测试阵列,所述测试阵列的其中一列为测试列,所述测试阵列的全部行以每两行为一组合行,所述测试列上的位于每个组合行的第一行上的存储单元为测试单元,所述测试单元的MTJ底电极连接至所在组合行的第二行的字线,该字线作为测试信号线输出测试信号,其中,所述字线译码器,用于根据输入的地址信号,选中所述测试阵列的其中一组合行的第一行的字线,该字线在选中后被拉高;所述行选择器,用于根据所述字线译码器的选择结果,将选中的组合行的第二行的字线选择连接至测试信号端。本发明能够对MRAM阵列中的其中一列上的多个存储单元进行参数测试。

技术领域

本发明涉及磁性存储器技术领域,尤其涉及一种MRAM阵列的测试电路。

背景技术

近年来,采用MTJ(Magnetic Tunnel Junction,磁性隧道结)的磁电阻效应的MRAM(Magnetic Random Access Memory,磁性随机存储器)被认为是未来的固态非易失性记忆体,相比于目前其他类型的存储器,具有读写速度快、可实现无限次擦写、易于与目前的半导体工艺相兼容等优点。

在现有的工艺流程中,MRAM通过一定的工艺手段制备出来后,需要通过测试电路对制造出来的MRAM阵列进行相关参数测试,如存储单元的翻转电压、存储单元的等效电阻等,以评判该制造工艺是否满足要求。

而MTJ作为MRAM存储单元的核心器件,MTJ的相关参数,如MTJ的翻转电压和电阻,也是一个很重要的参数。但是,目前的测试电路一般都无法测量MTJ的翻转电压和电阻,即使能测试,也只是针对MRAM阵列中的一个存储单元的MTJ参数进行测试,样本数量过少,无法进行相关的统计分析,从而导致无法对阵列的参数均一性进行分析。

发明内容

为解决上述问题,本发明提供一种MRAM阵列的测试电路,能够对MRAM阵列中的其中一列上的多个存储单元进行测试,得到多个存储单元的测试参数,也就获得了阵列的统计分布情况,便于进行统计分析,从而对阵列的参数均一性进行分析,对制造工艺的优劣进行评判。

第一方面,本发明提供一种MRAM阵列的测试阵列,包括:N行M列的多个存储单元,其中M、N为大于等于2的整数,所述测试阵列的每个存储单元包括MOS管和MTJ,每个存储单元的MTJ底电极连接至MOS管漏极,

所述测试阵列的每一行均设置有字线,所述测试阵列的每一列均设置有位线和源线,所述测试阵列的每一列的全部存储单元的MTJ顶电极连接至每一列各自的位线,所述测试阵列的每一列的全部存储单元的MOS管源极连接至每一列各自的源线;

所述测试阵列的其中一列为测试列,所述测试阵列的全部行以每两行为一组合行,所述测试列上的位于每个组合行的第一行上的存储单元为测试单元,所述测试单元的MTJ底电极连接至所在组合行的第二行的字线,每个组合行的第一行的全部存储单元的MOS管栅极连接至第一行的字线,每个组合行的第二行的全部存储单元的MOS管栅极和第二行的字线处于断开状态,且第二行的全部存储单元的MOS管栅极接地;

所述测试阵列的所述测试列的位线用于输入位线电压信号,所述测试列的源线用于输入源线电压信号,除所述测试列以外的其余各列的位线和源线全部接地;

所述测试阵列的每一组合行的两行中,第一行的字线用于输入字线电压信号,第二行的字线用于作为测试信号线以输出测试信号。

可选地,所述测试阵列的全部行以每相邻两行为一组合行。

可选地,如果N为偶数,所述测试阵列分为N/2个组合行,如果N为奇数,所述测试阵列分为(N-1)/2个组合行以及一单独行,所述单独行的全部存储单元的MOS管栅极连接至该行的字线。

第二方面,本发明提供一种MRAM阵列的测试电路,包括:字线译码器、行选择器以及上述的测试阵列,其中,

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中电海康集团有限公司;浙江驰拓科技有限公司,未经中电海康集团有限公司;浙江驰拓科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910663110.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top