[发明专利]一种阵列基板及OLED显示面板

权利要求书

1.一种阵列基板，其特征在于，所述阵列基板在弯折区包括：

柔性衬底；

水氧保护层，形成于所述柔性衬底上；

信号线层，形成于所述水氧保护层上，图案化形成信号传输线；

平坦化层，形成于所述信号线层及所述水氧保护层上；

所述阵列基板在显示区包括：在所述柔性衬底上依次层叠设置的阻隔层、缓冲层、有源层、第一栅极绝缘层、第一栅极层、第二栅极绝缘层、第二栅极层、第一层间绝缘层、第二层间绝缘层、源漏极层，其中所述第二层间绝缘层包括第三凹槽。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述弯折区包括第二弯折区以及第一弯折区；

在显示区内，所述阵列基板包括，形成于所述柔性衬底上的阻隔层；

所述阻隔层延伸至所述第一弯折区的部分，形成所述水氧保护层。

3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，在第一弯折区内，所述水氧保护层的膜层厚度，小于所述阻隔层的膜层厚度。

4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，在图案化所述信号线层且未形成所述信号传输线的对应区域内，所述水氧保护层形成有多个第一凹槽，所述平坦化层填充所述第一凹槽。

5.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，部分或全部所述第一凹槽，贯穿所述阻隔层。

6.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，在所述显示区内，所述阵列基板还包括，形成于所述阻隔层上的缓冲层；

所述阻隔层以及所述缓冲层延伸至所述第二弯折区内，形成所述水氧保护层。

7.根据权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，在所述第二弯折区内，所述水氧保护层的膜层厚度，等于所述阻隔层与所述缓冲层的膜层厚度之和。

8.根据权利要求7所述的阵列基板，其特征在于，在图案化所述信号线层且未形成所述信号传输线的对应区域内，所述水氧保护层形成有第二凹槽，所述平坦化层填充所述第二凹槽。

9.根据权利要求8所述的阵列基板，其特征在于，所述第二凹槽的深度，小于所述缓冲层的膜层厚度。

10.一种OLED显示面板，其特征在于，包括：

如权利要求1至9任一项所述的阵列基板；

形成于所述阵列基板上的发光功能层；

以及形成于所述发光功能层上的封装层。