[发明专利]一种阵列基板及OLED显示面板

说明书

本发明提供一种阵列基板及OLED显示面板，其阵列基板在弯折区包括层叠设置的柔性衬底、水氧保护层、信号线层和平坦化层，信号线层图案化形成的信号传输线，形成于水氧保护层上；弯折区还包括第二弯折区以及第一弯折区，水氧保护层在第一弯折区形成有第一凹槽，在第二弯折区形成有第二凹槽，平坦化层填充第一凹槽和第二凹槽；本发明通过把弯折区信号线层制作于水氧保护层上，并用平坦化层填充，缓解了水氧经有机光阻渗入信号线层，影响信号线电性能的问题。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板及OLED显示面板。

背景技术

现有显示装置为了提高显示区的屏占比，通常会在显示区外形成一个弯折区，在模组制程阶段将其弯折至面板背面。为了提高耐弯折性，通常会将弯折区无机层全部去除形成开孔，并用有机光阻进行填充，之后将信号线沉积在有机光阻上方并进行图案化，随后在信号线上方沉积平坦化层。如图1所示，这种设计弯折区BA信号线层30直接与有机光阻层20接触，而有机光阻层20直接与柔性衬底10接触，导致柔性衬底10中的水氧会通过有机光阻层20渗入信号线层30，从而影响信号线的电性能。

因此，现有显示装置存在的问题需要改进。

发明内容

本发明提供一种阵列基板及OLED显示面板，以缓解现有显示装置中水氧经有机光阻渗入信号线层，影响信号线电性能的技术问题。

为解决上述问题，本发明提供的技术方案如下：

本发明实施例提供一种阵列基板，其在弯折区包括：

柔性衬底；

水氧保护层，形成与所述柔性衬底上；

信号线层，形成于所述水氧保护层上，图案化形成信号传输线；

平坦化层，形成于所述信号线层以及所述水氧保护层上。

在本发明实施例提供的阵列基板中，所述弯折区包括第二弯折区以及第一弯折区；

在显示区内，所述阵列基板包括形成于所述柔性衬底上的阻隔层；

所述阻隔层延伸至所述第一弯折区的部分，形成所述水氧保护层。

在本发明实施例提供的阵列基板中，在第一弯折区内，所述水氧保护层的膜层厚度，小于所述阻隔层的膜层厚度。

在本发明实施例提供的阵列基板中，在图案化所述信号线层且未形成所述信号传输线的对应区域内，所述水氧保护层形成有多个第一凹槽，所述平坦化层填充所述第一凹槽。

在本发明实施例提供的阵列基板中，部分或全部所述第一凹槽，贯穿所述阻隔层。

在本发明实施例提供的阵列基板中，在所述显示区内，所述阵列基板还包括，形成于所述阻隔层上的缓冲层；

所述阻隔层以及所述缓冲层，延伸至所述第二弯折区的部分，形成所述水氧保护层。

在本发明实施例提供的阵列基板中，在所述第二弯折区内，所述水氧保护层的膜层厚度，等于所述阻隔层与所述缓冲层的膜层厚度之和。

在本发明实施例提供的阵列基板中，在图案化所述信号线层且未形成所述信号传输线的对应区域内，所述水氧保护层形成有第二凹槽，所述平坦化层填充所述第二凹槽。

在本发明实施例提供的阵列基板中，所述第二凹槽的深度，小于所述缓冲层的膜层厚度。

本发明实施例还提供一种OLED显示面板，其包括：

本发明实施例提供的阵列基板；

形成于所述阵列基板上的发光功能层；

以及形成于所述发光功能层上的封装层。