[发明专利]一种蚀刻装置有效

专利信息
申请号: 201910675367.6 申请日: 2019-07-24
公开(公告)号: CN110416128B 公开(公告)日: 2021-07-06
发明(设计)人: 李嘉 申请(专利权)人: TCL华星光电技术有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;G02F1/13
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 蚀刻 装置
【权利要求书】:

1.一种蚀刻装置,其特征在于,包括:

支撑体;

多个并排设置的第一传送滚轴,设于所述支撑体上;每个所述第一传送滚轴上套装有多个滚轮;

多个清洁件,所述清洁件用于对所述滚轮的外表面进行清洁,所述滚轮与所述清洁件对应,所述清洁件的位置与对应的滚轮的位置对应;

多个并排设置的第二传送滚轴,设于所述支撑体上,每个所述第二传送滚轴上套装有多个所述清洁件;其中所述第一传送滚轴的高度与所述第二传送滚轴的高度不等;以及

升降组件,所述升降组件与所述第二传送滚轴连接,所述升降组件用于对所述第二传送滚轴的高度进行调节。

2.根据权利要求1所述的蚀刻装置,其特征在于,所述清洁件的宽度大于或等于所述滚轮的宽度。

3.根据权利要求1所述的蚀刻装置,其特征在于,所述滚轮与所述清洁件一一对应。

4.根据权利要求1所述的蚀刻装置,其特征在于,所述清洁件的顶表面的形状和/或底表面的形状为弧形。

5.根据权利要求1所述的蚀刻装置,其特征在于,所述蚀刻装置还包括驱动组件,所述驱动组件与所述第二传送滚轴连接,所述驱动组件用于使所述第二传送滚轴转动。

6.根据权利要求1所述的蚀刻装置,其特征在于,所述支撑体还包括底板和侧壁,所述底板设置在所述侧壁的下方,所述清洁件固定在所述底板上。

7.根据权利要求1所述的蚀刻装置,其特征在于,所述清洁件设置在所述滚轮的下方和/或者上方。

8.根据权利要求1所述的蚀刻装置,其特征在于,所述清洁件的材料包括人造纤维、海绵、无尘布中的至少一种。

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