[发明专利]一种蚀刻装置

说明书

本发明提供一种蚀刻装置，该蚀刻装置包括：支撑体；多个并排设置的第一传送滚轴，设于所述支撑体上；每个所述第一传送滚轴上套装有多个滚轮；多个清洁件，所述清洁件用于对所述滚轮的外表面进行清洁，所述滚轮与所述清洁件对应，所述清洁件的位置与对应的滚轮的位置对应。本发明的蚀刻装置，能够提高产品良率。

【技术领域】

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种蚀刻装置。

【背景技术】

在液晶显示面板制造过程中，湿法蚀刻装置应用十分广泛，涉及蚀刻、涂布显影、清洗等众多工序。

湿法蚀刻装置通常包括一排传送滚轴，在每个传送滚轴上设置有多个滚轮，通过传送滚轴的转动带动滚轮转动，以便于对基板进行传送。

但是，滚轮长期在各种酸性、碱性、有机药液的环境下浸泡或风干会造成滚轮磨损，从而产生尘粒，此时再与基板接触，会刮伤基板或者将尘粒粘在基板上，从而降低产品良率。

因此，有必要提供一种蚀刻装置，以解决现有技术所存在的问题。

【发明内容】

本发明的目的在于提供一种蚀刻装置，能够提高产品良率。

为解决上述技术问题，本发明提供一种蚀刻装置，包括：

支撑体；

多个并排设置的第一传送滚轴，设于所述支撑体上；每个所述第一传送滚轴上套装有多个滚轮；

多个清洁件，所述清洁件用于对所述滚轮的外表面进行清洁，所述滚轮与所述清洁件对应，所述清洁件的位置与对应的滚轮的位置对应。

本发明的蚀刻装置，包括支撑体；多个并排设置的第一传送滚轴，设于所述支撑体上；每个所述第一传送滚轴上套装有多个滚轮；多个清洁件，所述清洁件用于对所述滚轮的外表面进行清洁，所述滚轮与所述清洁件对应，所述清洁件的位置与对应的滚轮的位置对应，由于在与滚轮对应的位置增加清洁件，从而能够在制程前对滚轮进行有效的清洁，防止尘粒刮伤基板或粘在基板上，进而提高了产品良率。

【附图说明】

图1为现有刻装置的结构示意图。

图2为本发明的蚀刻装置的结构示意图。

图3为图2中蚀刻装置的正视图。

【具体实施方式】

以下各实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。在图中，结构相似的单元是以相同标号表示。

如图1所示，现有的蚀刻装置包括支撑体10、多个第一传送滚轴21。其中支撑体10包括两个相对的侧壁11、12和底板13，其中多个第一传送滚轴21设置在两个侧壁11、12之间，且多个第一传送滚轴21并排设置，也即位于同一平面内。每个第一传送滚轴21上均套装有多个滚轮22，第一传送滚轴21带动所述滚轮22转动。

请参照图2和3，图2为本发明的蚀刻装置结构示意图。

如图2和3所示，结合图1，本实施例的蚀刻装置包括支撑体10、第一传送滚轴21、滚轮22、第二传送滚轴23、多个清洁件24。

其中支撑体10包括两个相对的侧壁11、12和底板13，两个侧壁11、12均设于底板13上，也即底板13位于两个侧壁11、12的下方。

多个第一传送滚轴21设于支撑体10上，具体设置在两个侧壁11、12之间。每个第一传送滚轴21的其中一个端部设于其中一个侧壁11上，另外一个端部设于另外一个侧壁12上。多个第一传送滚轴21并排设置，也即位于第一平面内，也即各第一传送滚轴21的高度相等。