[发明专利]一种母板、母板的制作方法及彩膜基板

权利要求书

1.一种母板，其特征在于，包括：衬底基板，在所述衬底基板上呈阵列排布的彩膜基板区，以及在各所述彩膜基板区之间区域设置的至少一个对位标识组；

所述彩膜基板区设置有色阻层和黑矩阵；其中，所述色阻层包括多个相互独立的色阻，所述黑矩阵填充于各所述色阻之间的间隙处；

每一所述对位标识组的颜色与一所述色阻的颜色相同，且包括多个等间距设置的对位标识；各所述对位标识被配置为在各所述色阻的制作过程中与掩膜板上的坐标进行对位；各所述对位标识之间的间距大小为各所述色阻之间间隙的大小。

2.如权利要求1所述的母板，其特征在于，所述黑矩阵还自所述间隙延伸至各所述色阻背离所述衬底基板一侧的表面，并在各所述色阻上具有开口。

3.如权利要求1或2所述的母板，其特征在于，所述间隙的宽度小于或等于2μm。

4.如权利要求3所述的母板，其特征在于，所述间隙的宽度大于或等于1μm且小于或等于2μm。

5.一种母板的制作方法，其特征在于，包括：

提供一衬底基板；

按照预设坐标，在所述衬底基板上呈阵列排布的各彩膜基板区形成一种颜色的色阻，同时在各所述彩膜基板区之间区域形成一包括多个等间距设置的对位标识的对位标识组；

以与所述对位标识组同步形成的色阻制作过程中所用对位标识等间距处的对位标识为基准，在各所述彩膜基板区构图形成其他颜色的色阻；各所述对位标识之间的间距大小为各所述色阻之间间隙的大小；

在不同颜色的色阻构成的色阻层上涂覆一层黑矩阵材料；

对所述黑矩阵材料进行曝光显影，形成至少填充于色阻间隙处的黑矩阵。

6.如权利要求5所述的制作方法，其特征在于，所述按照预设坐标，在所述衬底基板上呈阵列排布的各彩膜基板区形成一种颜色的色阻，同时在各所述彩膜基板区之间区域形成一包括多个等间距设置的对位标识的对位标识组，具体包括：

在所述衬底基板上整面涂覆一种颜色的色阻材料；

按照预设坐标，对该种颜色的色阻材料进行曝光显影处理，形成位于各所述彩膜基板区的色阻，以及在各所述彩膜基板区之间区域且包括多个等间距设置的对位标识的对位标识组。

7.如权利要求5所述的制作方法，其特征在于，所述以与所述对位标识组同步形成的色阻制作过程中所用对位标识等间距处的对位标识为基准，在各所述彩膜基板区构图形成其他颜色的色阻，具体包括：

在所述衬底基板具有所述对位标识组的一侧整面涂覆其他颜色的色阻材料；

将与所述对位标识组同步形成的色阻制作过程中所用对位标识等间距处的对位标识，与掩膜板上的坐标进行对位；

采用所述掩膜板对其他颜色的色阻材料进行曝光处理；

移去所述掩膜板，并对曝光处理后的其他颜色的色阻材料进行显影处理，形成其他颜色的色阻，或者，同步形成其他颜色的色阻和一对位标识组。

8.如权利要求5所述的制作方法，其特征在于，所述对所述黑矩阵材料进行曝光显影，形成至少填充于色阻间隙处的黑矩阵，具体包括：

对所述黑矩阵材料进行曝光显影，形成填充于色阻间隙处的黑矩阵；或者，形成填充于色阻间隙处，以及自所述间隙延伸至各所述色阻背离所述衬底基板一侧的表面，同时在各所述色阻上具有开口的黑矩阵。

9.如权利要求5-8任一项所述的制作方法，其特征在于，在涂覆过程中的涂布速度为200mm/sec，涂布间隙为120μm～180μm；在曝光处理过程中的曝光剂量为40mj～60mj，曝光时间为38s～58s；在显影处理过程中使用浓度为0.05％±0.005％的KOH水溶液作为显影液。

10.如权利要求5-8任一项所述的制作方法，其特征在于，在所述形成填充于色阻间隙处的黑矩阵之后，还包括：

在所述黑矩阵所在层之上依次形成绝缘层和隔垫物层。

11.一种彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板通过切割权利要求1-4任一项所述的母板获得。