[发明专利]一种母板、母板的制作方法及彩膜基板

说明书

本发明公开了一种母板、母板的制作方法及彩膜基板中，该母板包括：衬底基板，在衬底基板上呈阵列排布的彩膜基板区，以及在各彩膜基板区之间区域设置的至少一个对位标识组；彩膜基板区设置有色阻层和黑矩阵；其中，色阻层包括多个相互独立的色阻，黑矩阵填充于各色阻之间的间隙处；每一对位标识组的颜色与一色阻的颜色相同，且包括多个等间距设置的对位标识；各对位标识被配置为在各色阻的制作过程中与掩膜板上的坐标进行对位。由于各对位标识之间的间距大小即为各色阻之间间隙的大小，从而可通过设置各对位标识之间的间距大小，来控制各色阻之间间隙的大小，如此便限定了填充于各色阻间隙处的黑矩阵的线宽，以满足高分辨率产品的需求。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种母板、母板的制作方法及彩膜基板。

背景技术

常规彩膜基板像素结构如图1所示，一般通过以下方式来实现其像素结构。具体地，首先在玻璃衬底上涂覆整面的黑矩阵材料，然后通过掩膜板曝光形成黑矩阵BM图案，之后在对应矩阵块中填充红绿蓝(RGB)色阻。由于黑矩阵材料性质及防止串色不良的功能所限，此像素结构中黑矩阵线宽(BM CD)的目前量产水平在4μm～8μm左右。但是，针对目前的高分辨率虚拟现实产品，以及未来的超高分辨率产品而言，现有黑矩阵的线宽较大，极大地影响了像素开口率。

发明内容

有鉴于此，本发明实施例提供一种母板、母板的制作方法及彩膜基板，用以解决现有技术中存在的黑矩阵线宽较大的问题。

因此，本发明实施例提供的一种母板，包括：衬底基板，在所述衬底基板上呈阵列排布的彩膜基板区，以及在各所述彩膜基板区之间区域设置的至少一个对位标识组；

所述彩膜基板区设置有色阻层和黑矩阵；其中，所述色阻层包括多个相互独立的色阻，所述黑矩阵填充于各所述色阻之间的间隙处；

每一所述对位标识组的颜色与一所述色阻的颜色相同，且包括多个等间距设置的对位标识；各所述对位标识被配置为在各所述色阻的制作过程中与掩膜板上的坐标进行对位。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述母板中，所述黑矩阵还自所述间隙延伸至各所述色阻背离所述衬底基板一侧的表面，并在各所述色阻上具有开口。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述母板中，所述间隙的宽度小于或等于2μm。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述母板中，所述间隙的宽度大于或等于1μm且小于或等于2μm。

相应地，本发明实施例还提供了一种母板的制作方法，包括：

提供一衬底基板；

按照预设坐标，在所述衬底基板上呈阵列排布的各彩膜基板区形成一种颜色的色阻，同时在各所述彩膜基板区之间区域形成一包括多个等间距设置的对位标识的对位标识组；

以与所述对位标识组同步形成的色阻制作过程中所用对位标识等间距处的对位标识为基准，在各所述彩膜基板区构图形成其他颜色的色阻；

在不同颜色的色阻构成的色阻层上涂覆一层黑矩阵材料；

对所述黑矩阵材料进行曝光显影，形成至少填充于色阻间隙处的黑矩阵。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述制作方法中，所述按照预设坐标，在所述衬底基板上呈阵列排布的各彩膜基板区形成一种颜色的色阻，同时在各所述彩膜基板区之间区域形成一包括多个等间距设置的对位标识的对位标识组，具体包括：

在所述衬底基板上整面涂覆一种颜色的色阻材料；

按照预设坐标，对该种颜色的色阻材料进行曝光显影处理，形成位于各所述彩膜基板区的色阻，以及在各所述彩膜基板区之间区域且包括多个等间距设置的对位标识的对位标识组。