[发明专利]一种吸附装置、曝光台、光刻设备及吸附方法

权利要求书

1.一种吸附装置，其特征在于，包括：

吸盘(11)，所述吸盘(11)的基底吸附面环绕其中心开设有安装凹槽(112)，且所述基底吸附面于所述安装凹槽(112)的内侧开设有用于与真空源连通的吸附凹槽(111)；

密封圈(12)，其下端密封设置在所述安装凹槽(112)内，其上端用于与基底接触；

当所述密封圈(12)未与所述基底接触时，所述密封圈(12)的上端凸出所述吸附面，当所述吸附凹槽(111)处于真空状态时，所述密封圈(12)完全位于所述安装凹槽(112)内，且所述密封圈(12)的上端与所述基底吸附面平齐。

2.根据权利要求1所述的吸附装置，其特征在于，所述吸盘(11)于所述安装凹槽(112)的内侧开设有吸附孔(114)，所述吸附孔(114)沿所述吸盘(11)的厚度方向贯通所述吸盘(11)，所述吸附装置(10)还包括交接机构(2)，所述交接机构(2)包括：

吸附组件，其与所述基底吸附面垂直，所述吸附组件的下端位于所述吸盘(11)下侧，所述吸附组件的上端能穿过并密封所述吸附孔(114)，且所述吸附组件能相对所述吸盘(11)沿垂直于所述吸盘(11)的方向运动，所述吸附组件内开设有真空气道(243)，所述真空气道(243)贯穿所述吸附组件的上端面以吸附所述基底。

3.根据权利要求2所述的吸附装置，其特征在于，所述吸附组件包括：

吸附柱(24)，其与所述基底吸附面垂直，所述吸附柱(24)的上端能伸入所述吸附孔(114)中并能相对所述吸附孔(114)沿垂直于所述基底吸附面的方向运动，所述吸附柱(24)内开设有所述真空气道(243)，所述真空气道(243)的上端贯穿所述吸附柱(24)的上端面，所述真空气道(243)与真空源连通；

吸嘴(25)，设置在所述吸附柱(24)的上端且与所述真空气道(243)连通，所述吸嘴(25)的外表面能与所述吸附孔(114)的内壁密封贴合，且所述吸嘴(25)的上端高于所述吸附柱(24)的上端面。

4.根据权利要求1-3任一项所述的吸附装置，其特征在于，所述安装凹槽(112)包括位于沿所述吸盘(11)厚度方向连通的安装槽部(1121)和容纳槽部(1122)，所述安装槽部(1121)位于所述容纳槽部(1122)的底部，所述容纳槽部(1122)的槽宽大于所述安装槽部(1121)的槽宽，所述密封圈(12)的下端卡设在所述安装槽部(1121)内。

5.根据权利要求4所述的吸附装置，其特征在于，所述安装槽部(1121)的槽宽沿其槽底至其槽口逐渐减小。

6.根据权利要求5所述的吸附装置，其特征在于，所述密封圈(12)包括：

安装部(121)，其横截面为下端大、上端小的梯形，所述安装部(121)与所述容纳槽部(1122)密封卡接；

变形部(122)，其一端与所述安装部(121)连接，另一端沿远离所述安装部(121)的方向延伸。

7.根据权利要求6所述的吸附装置，其特征在于，所述变形部(122)的横截面呈折线型，所述折线型沿所述密封圈(12)的轴向方向延伸；或，

所述变形部(122)呈锥形面形，且所述锥形面靠近所述安装部(121)的一端小于所述锥形面另一端内径。

8.根据权利要求5所述的吸附装置，其特征在于，所述密封圈(12)包括：

密封圈(12)本体，其横截面呈长条孔结构，所述长条孔结构的长度方向沿所述密封圈(12)的轴向方向设置；

橡胶绳(123)，穿设在所述密封圈(12)本体的下端。

9.根据权利要求1-3任一项所述的吸附装置，其特征在于，所述安装凹槽(112)与所述吸盘(11)同心设置。

10.根据权利要求9所述的吸附装置，其特征在于，所述基底吸附面沿所述吸盘(11)的径向分隔形成有多个吸附区，用于适用不同尺寸的所述基底的吸附，每个所述吸附区内至少设置有一个所述密封圈(12)。