[发明专利]处理系统有效
申请号: | 201910692841.6 | 申请日: | 2015-09-03 |
公开(公告)号: | CN110488576B | 公开(公告)日: | 2023-05-16 |
发明(设计)人: | 鬼头义昭;加藤正纪;奈良圭;堀正和 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G03F7/30 | 分类号: | G03F7/30;G03F7/16;G03F7/24;G03F9/00;H01L21/67;B65H18/10;B65H20/24;B65H23/188 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 王天尧;任默闻 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 处理 系统 | ||
1.一种处理系统,通过将长条的可挠性片状基板沿长条方向往多个处理装置的各个依次搬送,于前述片状基板形成既定图案,
前述多个处理装置包含在前述片状基板的搬送方向上设置于上游侧的第1处理装置、与设置于下游侧的第2处理装置,
前述处理系统具备:
第1信息形成装置,在前述片状基板的一部分形成与前述第1处理装置根据第1设定条件对前述片状基板所实施的处理状态、或处理误差相关的第1信息;
第2信息形成装置,在前述片状基板的一部分形成与前述第2处理装置根据第2设定条件对前述片状基板所实施的处理状态、或处理误差相关的第2信息;
信息收集装置,通过设在前述片状基板的搬送路中的信息读取部,读取并收集形成在前述片状基板的前述第1信息或前述第2信息;以及
控制装置,根据通过前述信息收集装置收集的前述第1信息,按照需要修正前述第2设定条件,根据通过前述信息收集装置收集的前述第2信息,按照需要修正前述第1设定条件;
前述第1信息形成装置配置在前述第1处理装置的内部、或前述第1处理装置与前述第2处理装置之间的前述片状基板的搬送路中,
前述第2信息形成装置配置在前述第2处理装置的内部、或从前述第2处理装置搬出的前述片状基板的搬送路中。
2.如权利要求1所述的处理系统,其中,在前述片状基板上,形成作为前述图案的电子元件用图案的元件形成区域的多个,沿长条方向以既定间隔设定,
前述第1信息形成装置,在前述片状基板上的前述元件形成区域的外部、或前述元件形成区域的内部的第1区域形成前述第1信息,
前述第2信息形成装置,在前述片状基板上的前述元件形成区域的外部、或前述元件形成区域的内部的与前述第1区域不同的第2区域形成前述第2信息。
3.如权利要求2所述的处理系统,其中,在将前述第1区域或前述第2区域设定在前述元件形成区域的内部的情形时,将前述第1区域或前述第2区域设定在前述元件形成区域内的空白区域、或用以和外部电路连接的电极垫。
4.如权利要求1至3中任一权利要求所述的处理系统,其中,前述第1信息形成装置、及前述第2信息形成装置将前述第1信息、及前述第2信息作为条码或QR码形成在前述片状基板上。
5.如权利要求1至3中任一权利要求所述的处理系统,其进而具备第3处理装置,搬入在前述第2处理装置处理后的前述片状基板,根据第3设定条件对前述片状基板实施处理,
前述信息读取部设置于,在前述片状基板的搬送方向上前述第1信息形成装置的下游侧且前述第2处理装置的上游侧的位置、或前述第2处理装置的内部,与在前述片状基板的搬送方向上前述第2信息形成装置的下游侧且前述第3处理装置的上游侧的位置、或前述第3处理装置的内部的各个。
6.如权利要求1至3中任一权利要求所述的处理系统,其中,前述第1处理装置具备:
成膜装置,以作为前述第1设定条件而设定的目标膜厚条件,在前述片状基板的表面选择性地或全部地形成感光性功能层;以及
测量装置,测量在前述片状基板的表面形成的前述感光性功能层的实际膜厚,
前述第1信息形成装置将前述感光性功能层的前述目标膜厚条件与测量到的前述实际膜厚的误差信息作为前述第1信息形成在前述片状基板。
7.如权利要求6所述的处理系统,其中,前述第2处理装置具备曝光装置,以作为前述第2设定条件而设定的目标曝光量,对以既定搬送速度移动的前述片状基板的前述感光性功能层照射光图案,在前述感光性功能层形成对应于前述图案的改质部,
前述控制装置,以基于通过前述信息收集装置的信息读取部读取的前述第1信息,在前述感光性功能层的膜厚的前述误差信息显示出从既定容许范围偏离的倾向时,修正设定在前述曝光装置的前述目标曝光量的方式控制。
8.如权利要求7所述的处理系统,其中,前述曝光装置,在接受修正前述目标曝光量的控制时,调整前述片状基板的前述既定搬送速度与前述光图案的光强度中的至少一个。
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