[发明专利]处理系统

说明书

本发明提供提供一种即使是在以任一处理装置对片状基板实际实施的处理的状态与目标的处理状态不同时，亦能在无需停止制造系统全体的情形下，进行电子元件的制造的处理系统及元件制造方法。一种将长条的可挠性片状基板(P)沿长条方向依序搬送至第1～第3处理装置(PR2～PR4)的各个，以在片状基板(P)形成既定图案的处理系统(10)，第1～第3处理装置(PR2～PR4)依据设定于各个处理装置的设定条件对片状基板(P)施以既定处理，在第1～第3处理装置(PR2～PR4)的各个中对片状基板(P)实施的实处理状态中的至少一者相对目标的处理状态呈现处理误差(E)的情形时，使呈现处理误差(E)的设定条件以外的其他设定条件因应处理误差(E)变化。

本发明为申请日2015年09月03日，申请号为“201580047663.1”，发明名称为“处理系统及元件制造方法”的发明专利申请的分案申请。

技术领域

本发明是关于以卷对卷(roll to roll)方式制造电子元件的处理系统及元件制造方法。

背景技术

于国际公开第2013/136834号小册子中，揭露了一种为了在可挠性长条片状基板上形成电子元件(以有机EL或液晶形成的显示面板)的图案，而从卷有片状基板的供应卷筒供应的片状基板沿长条方向搬送，并以沿长条方向排列的多个处理装置U1～Un对片状基板施以既定处理后，回收卷筒卷取的卷对卷(roll to roll)方式的制造系统。具体而言，处理装置U1对从供应卷拉出的可挠性片状基板于片状基板表面形成感光性功能层，处理装置U2对片状基板进行加热以使形成的感光性功能层安定的固定。接着，处理装置U3(曝光装置)对感光性功能层照射紫外线图案化光，处理装置U4进行显影，处理装置U5则加热片状基板使其干燥。

然而，如国际公开第2013/136834号小册子所揭露的卷对卷方式的制造系统中，以任一处理装置U对片状基板实际实施的处理的状态与目标的处理状态相异的情形时，例如，在处理装置U3(曝光装置)的曝光用照明光(激光等)的强度并非是目标强度的情形时等，形成于片状基板的图案将不会是期望的图案。形成于此片状基板的图案，由于是以各处理装置U1～Un的处理形成，因此仅看形成的图案是无法特定出其原因是在哪一个处理装置。此外，于卷对卷方式的制造系统，是将连接成带状的长条的一片片状基板于长条方向连续搬送，因此从特定产生处理误差的处理装置，用以将该处理误差抑制在容许范围内的调整作业等的必要性来看，即使是使特定的处理装置的处理动作暂时停止，即代表制造系统全体(一连续的制造线)的停止，不是有效率的。

发明内容

本发明第1态样的处理系统，是将长条的可挠性片状基板沿长条方向依序搬送至多个处理装置的各个，据以在该片状基板形成既定图案，其具备：第1该处理装置，依据第1设定条件一边将该片状基板往该长条方向搬送、一边于该片状基板表面选择性的或全部的形成感光性薄膜；第2该处理装置，依据第2设定条件一边将该片状基板往该长条方向搬送、一边对该片状基板表面的该感光性薄膜照射对应该图案的光能，以在该感光性薄膜形成对应该图案的潜像；第3该处理装置，依据第3设定条件一边将该片状基板往该长条方向搬送、一边藉由回应该潜像的该感光性薄膜的选择性的显影或回应该潜像的对该感光性薄膜的选择性的镀敷，使该图案出现在该片状基板上；以及控制装置，在该第1～该第3处理装置的各个中施于该片状基板的实处理的状态中至少1个，对该第1～该第3处理装置中各个的目标的处理状态呈现处理误差的情形时，使该第1～该第3设定条件中、呈现该处理误差的该设定条件以外的其他该设定条件因应该处理误差变化。