[发明专利]一种抑制厚外延层半导体器件寄生BJT的方法及结构在审

专利信息
申请号: 201910693631.9 申请日: 2019-07-21
公开(公告)号: CN112259536A 公开(公告)日: 2021-01-22
发明(设计)人: 胡德霖;胡醇;田甜;柯胜;徐小雷;蒋莹;张恒也;黄涛;管逸恬 申请(专利权)人: 苏州电器科学研究院股份有限公司
主分类号: H01L27/092 分类号: H01L27/092;H01L21/8238
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215104 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 抑制 外延 半导体器件 寄生 bjt 方法 结构
【权利要求书】:

1.一种抑制厚外延层半导体器件寄生BJT的方法及结构,其特征在于,结构为环绕重掺杂(280)和多晶抽取棒(290)。

2.根据权利要求1所述的一种抑制厚外延层半导体器件寄生BJT的方法及结构,其特征在于,环绕重掺杂(280)为且不限为杂质注入、扩散方法形成,掺杂类型与多晶抽取棒(290)一致。多晶抽取棒(290)为且不限为ICP填充方法形成,掺杂浓度大于1E16cm-3,掺杂类型与环绕重掺杂(280)一致。电学性能上,环绕重掺杂(280)与有源区域不相连,与多晶抽取棒(290)相连。

3.根据权利要求1所述的一种抑制厚外延层半导体器件寄生BJT的方法及结构,其特征在于,环绕重掺杂(280)与多晶抽取棒(290)共同组成抽取外延层中的非平衡载流子的机构,与衬底(100)的电势保持一致,能够有效抽取厚外延(200)中的非平衡载流子,达到抑制厚外延层半导体器件寄生BJT的目的。

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