[发明专利]干式清洗装置

权利要求书

1.一种干式清洗装置，具有：

清洗槽，其在内部容纳清洗介质且具有开口，在所述开口配置清洗对象；

气体供给单元，其向所述清洗槽内供给气体而使所述清洗介质飞散，通过使飞散的清洗介质碰撞所述清洗对象来去除污垢；

控制单元，其控制所述气体供给单元的气体供给；

其特征在于，

所述干式清洗装置还具有检测所述清洗对象对所述开口的封闭状态的状态检测单元，

在所述状态检测单元检测出所述开口不为封闭状态时，所述控制单元禁止所述气体供给单元供给气体，

所述状态检测单元具有位置检测部，通过利用该位置检测部检测所述清洗对象与所述开口的相对位置来检测所述开口的封闭状态，

所述开口为大致矩形形状，

所述位置检测部包含分别设置在所述开口的四角附近的、用于检测所述清洗对象的存在的四个位置传感器，

当所述四个位置传感器同时检测到存在所述清洗对象时，检测出所述开口为封闭状态。

2.如权利要求1所述的干式清洗装置，其特征在于，

所述位置检测部为分别设置在所述开口的、用于检测所述清洗对象的存在的位置传感器，

当所述位置传感器中在所述清洗对象的移动方向上更靠下游侧的位置传感器检测到存在所述清洗对象时，检测出所述开口为封闭状态。

3.如权利要求1所述的干式清洗装置，其特征在于，

所述状态检测单元还具有气密检测部，通过利用该气密检测部检测所述清洗槽的气密状态来检测所述开口的封闭状态。

4.如权利要求3所述的干式清洗装置，其特征在于，

所述干式清洗装置还具有从所述清洗槽内抽吸气体来回收污垢的污垢回收单元，

所述气密检测部包含负压传感器，所述负压传感器检测所述污垢回收单元工作而所述气体供给单元不工作时所述清洗槽内的负压，在所述负压为规定的负压阈值以上时，检测出所述开口为封闭状态。

5.如权利要求4所述的干式清洗装置，其特征在于，

所述负压传感器在所述清洗槽内设置在比静置的所述清洗介质高的位置。

6.如权利要求5所述的干式清洗装置，其特征在于，

所述开口位于所述清洗槽的上部，

所述负压传感器在所述清洗槽内设置在比所述开口稍靠下的位置。

7.如权利要求3所述的干式清洗装置，其特征在于，

所述干式清洗装置还具有从所述清洗槽内抽吸气体来回收污垢的污垢回收单元，

所述气密检测部包含流量传感器，所述流量传感器检测所述污垢回收单元工作而所述气体供给单元不工作时从所述清洗槽抽出的气体的流量，在所述流量为规定的流量阈值以下时，检测出所述开口为封闭状态。