[发明专利]干式清洗装置

说明书

本发明提供干式清洗装置，该干式清洗装置具有：清洗槽(11)，其在内部容纳清洗介质(A)且具有开口，在所述开口(O)配置清洗对象(M)；气体供给单元(2)，其向清洗槽(11)内供给气体而使清洗介质(A)飞散，通过使飞散的清洗介质(A)碰撞清洗对象(M)来去除污垢；控制单元(4)，其控制气体供给单元(2)的气体供给；状态检测单元(5、6)，其检测开口(O)的封闭状态；在状态检测单元(5、6)检测出开口(O)不为封闭状态时，控制单元(4)禁止气体供给单元(2)供给气体。由此，能够通过简单的方式防止清洗介质泄漏。

技术领域

本发明涉及除去清洗对象上的污垢的技术，具体而言，涉及通过使清洗介质飞散而碰撞清洗对象来去除污垢的干式清洗装置。

背景技术

近年来，为了克服传统的湿式清洗技术的弊端，从而降低成本，减轻环境负荷，提出了一种不使用溶剂的干式清洗技术。

作为这种干式清洗技术的具体应用，专利文献1、2提出了图9所示的通过向清洗槽11内供给压缩气体而使树脂片或板状膜片等清洗介质A飞散，从而通过清洗介质A对开口O处的清洗对象M的碰撞、研磨来洗掉清洗对象M上的污垢的干式清洗装置。这种干式清洗装置能够将单次清洗时间缩短到数分钟以内，大幅度提高了清洗效率。并且，这种干式清洗装置不需要使用溶剂，而且清洗介质A可以循环利用，降低了成本和环境负荷。

专利文献1：日本专利第4531841号

专利文献2：日本特开2007-144395

但是，上述干式清洗装置如果在不存在清洗对象或者清洗槽的开口尚未被清洗对象完全覆盖的情况下向清洗槽内供给压缩气体，则存在清洗介质从开口的开放处泄漏的问题，存在安全隐患(图10A、图10B)。

另外，在清洗对象本身就具有开口的情况下，即使开口完全被清洗对象覆盖，清洗介质也可能从该开口处泄漏(图10C)。

发明内容

本发明是鉴于上述技术问题而做出的，其目的在于提供一种能够通过简单的方式防止清洗介质泄漏的干式清洗装置。

为了达到上述目的，本发明提供一种干式清洗装置，该干式清洗装置具有：清洗槽，其在内部容纳清洗介质且具有开口，在所述开口配置清洗对象；气体供给单元，其向所述清洗槽内供给气体而使所述清洗介质飞散，通过使飞散的清洗介质碰撞所述清洗对象来去除污垢；控制单元，其控制所述气体供给单元的气体供给；其特征在于，所述干式清洗装置还具有检测所述开口的封闭状态的状态检测单元，在所述状态检测单元检测出所述开口不为封闭状态时，所述控制单元禁止所述气体供给单元供给气体。

根据本发明，由于仅在清洗槽的开口为被清洗对象完全覆盖的封闭状态时才允许气体供给单元供给气体，因此不会出现“在不存在清洗对象或者清洗槽的开口尚未被清洗对象完全覆盖的情况下向清洗槽内供给压缩气体”的事态，能够通过简单的方式防止清洗介质泄漏。

在此，所谓“清洗槽的开口被清洗对象完全覆盖”，是指清洗槽的开口的边缘位置完全被清洗对象盖住，没有向外部开放的缝隙。

优选地，所述状态检测单元具有位置检测部，通过利用该位置检测部检测所述清洗对象与所述开口的相对位置来检测所述开口的封闭状态。

根据该方式，能够通过位置检测部这一简单的结构检测清洗槽的开口的封闭状态，能够使干式清洗装置整体的构造较为简单。并且，通过位置检测部，能够确保在清洗槽的开口被清洗对象完全覆盖的状态下进行清洗，能够防止清洗介质从开口边缘处泄漏，从而保证清洗效果。