[发明专利]清洗槽及干式清洗装置在审

专利信息
申请号: 201910695309.X 申请日: 2019-07-30
公开(公告)号: CN112296016A 公开(公告)日: 2021-02-02
发明(设计)人: 吉田正洋;易云;龙志钊;吉野悟志 申请(专利权)人: 理光高科技(深圳)有限公司;雷欧电子株式会社
主分类号: B08B5/02 分类号: B08B5/02;B08B13/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 谢辰
地址: 广东省深圳市宝安区*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 清洗 装置
【权利要求书】:

1.一种清洗槽,其用于干式清洗装置,该干式清洗装置利用气体使清洗介质在清洗槽内飞散而使所述清洗介质碰撞清洗对象来去除附着在所述清洗对象上的污垢,

所述清洗槽的特征在于,

所述清洗槽形成为具有一定长度的槽状,

所述清洗槽具有用于所述清洗介质与所述清洗对象碰撞的开口,在与所述开口相对的一侧设有用于所述气体喷出到所述清洗槽内的气体喷出口,

所述清洗槽的与长度方向垂直的截面形状为四边形以上的多边形。

2.根据权利要求1所述的清洗槽,其特征在于,

所述截面形状为五边形以上的多边形。

3.根据权利要求2所述的清洗槽,其特征在于,

所述截面形状为五边形,所述五边形的一边为所述开口,所述五边形的与所述一边相对的顶点为所述气体喷出口。

4.根据权利要求1~3中的任一项所述的清洗槽,其特征在于,

所述多边形关于经过所述气体喷出口的竖直线对称。

5.一种干式清洗清洗装置,其特征在于,

具备如权利要求1~4中的任一项所述的清洗槽。

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