[发明专利]一种碱液刻蚀制备MXene量子点的方法

权利要求书

1.一种碱液刻蚀制备MXene 量子点的方法，其特征在于，所述方法通过碱液法对MAX相中两性元素Al进行刻蚀，以及依靠碱性溶液的腐蚀性和阳离子的插层作用，从MAX相直接制备出不含有F离子的MXene量子点，

其中，所述方法包括：

步骤1：称量MAX相、碱性化合物以及水备用，所述碱性化合物为KOH、NaOH、LiOH或氨水；

步骤2：将碱性化合物溶于水，形成碱性溶液；

步骤3：将MAX相加入碱性溶液，室温条件下放置，形成浑浊液；

步骤4：将步骤3得到的浑浊液进行离心取上层清液并通过孔径为0.22 ~ 0.80μm的过滤器抽滤，得到含MXene量子点的碱性溶液；

步骤5：对含MXene量子点的碱性溶液进行透析，除去溶液中碱性离子以及金属离子，得到MXene量子点水溶液；

步骤6：用有机溶剂替换水溶液，与MAX相混合搅拌，得到有机相MXene量子点，其中，有机溶剂为二甲基亚砜、N,N-二甲基甲酰胺或乙醇，温度为50 ~ 110℃，搅拌时间为0.5 ~ 2h。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤3在室温条件下放置过程中辅助以搅拌操作。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤4中离心条件为1000 ~ 5000 rpm离心5 ~ 20 min。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤5中透析条件为在3500 Da ~7000 Da的透析袋透析3 ~ 5天。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述MAX相包括Ti₃AlC₂、Ti₂AlN、Cr₂AlC、Ti₂AlC。

6.一种MXene量子点，其特征在于，所述MXene量子点采用根据权利要求1至5中任一项所述的碱液刻蚀制备MXene 量子点的方法进行制备。