[发明专利]一种纳米压印模板及其制作方法

权利要求书

1.一种纳米压印模板，其特征在于，包括：

柔性衬底；

位于所述柔性衬底上的刚性衬底；

固定在所述刚性衬底远离所述柔性衬底一侧的软模版，其中，所述软模版背离所述刚性衬底的一侧具有设定图案以及多个对位标记。

2.如权利要求1所述的纳米压印模板，其特征在于，所述柔性衬底和所述刚性衬底之间通过光学透明胶固定，且所述刚性衬底与所述软模版之间通过光学透明胶固定。

3.如权利要求2所述的纳米压印模板，其特征在于，所述刚性衬底包括刚性玻璃。

4.如权利要求3所述的纳米压印模板，其特征在于，所述刚性衬底的厚度小于或等于所述柔性衬底的1/3。

5.如权利要求1-4任一所述的纳米压印模板，其特征在于，所述多个对位标记均匀分布在所述软模版的四周。

6.如权利要求5所述的纳米压印模板，其特征在于，所述软模版采用硅胶材料或树脂材料制备，所述软膜版在柔性衬底的背离侧形成图形结构。

7.一种纳米压印模板的制作方法，其特征在于，包括：

在刚性衬底相对的第一侧和第二侧分别涂覆光学透明胶，并在位于所述第一侧的光学透明胶上设置离型膜；

使用压印设备或覆膜设备将所述刚性衬底的所述第二侧贴覆在柔性衬底之上；

在母模板具有与预设图形的一面上形成软模版，并在所述软模版上设置多个对位标识，其中，所述软模版具有与所述预设图形相对应的图案；

固定所述软模版与所述刚性衬底，其中，所述软模版背离所述图案的一侧面向所述刚性衬底。

8.如权利要求7所述的制作方法，其特征在于，在母模板具有预设图形的一面上形成软模版，包括：

在母模板具有预设图形的一面上涂覆硅胶材料或树脂材料；

将母模板预设图形转移到硅胶材料或树脂材料之后，固化所述硅胶材料或树脂材料以形成所述软模版。

9.如权利要求7所述的制作方法，其特征在于，固定所述软模版与所述衬底基膜，包括：

去除所述离型膜；

采用压印设备将所述软模版背离所述图案的一侧贴覆在所述第一侧的光学透明胶上。

10.如权利要求7-9任一所述的制作方法，其特征在于，在刚性衬底相对的第一侧和第二侧分别涂覆光学透明胶，包括：

在刚性玻璃相对的第一侧和第二侧分别涂覆光学透明胶。