[发明专利]一种纳米压印模板及其制作方法

说明书

本申请公开了一种纳米压印模板及其制作方法，用于降低纳米压印过程中压印模版对位标记与压印基板对位标记对位失败的概率。其中的纳米压印模板包括：柔性衬底；位于所述柔性衬底上的刚性衬底；固定在所述刚性衬底远离所述柔性衬底一侧的软模版，其中，所述软模版背离所述刚性衬底的一侧具有设定图案以及多个对位标记。

技术领域

本申请涉及半导体技术领域，尤其涉及一种纳米压印模板及其制作方法。

背景技术

纳米压印技术(NIL)是一种直接利用机械接触挤压，使被压印材料在模板和基底之间发生再分布，实现图形复制转移的方法，在显示、半导体等领域具有广泛的应用。

由于显示基板由逐渐从小尺寸向大尺寸发展，与之对应的就需要大尺寸的纳米压印模板。利用纳米压印模板压印材料，使得材料在模板和基底之间发生再分布实现图形复制的过程中，需要将纳米压印模板与基底对位，具体的，纳米压印模板和基底均设置对位标识，通过对位标识实现对位。

但是，通常制作纳米压印模板的基材是有机材料，所以在利用纳米压印模板压印时，由于有机材料的机械拉伸形变导致纳米压印模板上的对位标识发生位置上坐标偏差，后续导致纳米压印模板与压印基板对位失败。

发明内容

本申请提供一种纳米压印模板及其制作方法，用于降低纳米压印过程中压印模版对位标记与压印基板对位标记。

第一方面，本申请实施例提供一种纳米压印模板，该纳米压印模板包括：

柔性衬底；

位于所述柔性衬底上的刚性衬底；

固定在所述刚性衬底远离所述柔性衬底一侧的软模版，其中，所述软模版背离所述刚性衬底的一侧具有设定图案以及多个对位标记。

该纳米压印模板中，支撑软模版的是刚性衬底和柔性衬底，相较于现有技术中支撑软模版的柔性衬底来说，由于刚性衬底可以减小纳米压印模板在压印过程发生的形变，从而尽量避免软模版上的对位标识发生位置坐标偏差，进而降低压印过程中对位失败的概率。

在一种可能的实施方式中，所述柔性衬底和所述刚性衬底之间通过光学透明胶固定，且所述刚性衬底与所述软模版之间通过光学透明胶固定。

在一种可能的实施方式中，所述刚性衬底包括刚性玻璃。

本申请实施例中，选择刚性玻璃作为刚性衬底，玻璃易于做成的透明的，用在纳米压印模板中，易于实现。

在一种可能的实施方式中，所述刚性衬底的厚度小于或等于所述柔性衬底的1/3。

在本申请实施例中，刚性衬底的厚度小于柔性衬底的1/3，通常柔性衬底厚度最大不超过500um，所以刚性衬底的厚度小于柔性衬底的1/3，较为薄，以尽量避免由于刚性衬底的重量导致纳米压印模板在压印过程中，由于重力作用发生形变。

在一种可能的实施方式中，所述多个对位标记均匀分布在所述软模版的四周。

在一种可能的实施方式中，所述软模版采用硅胶材料或树脂材料制备，所述软膜版在柔性衬底的背离侧形成图形结构。

第二方面，本申请实施例提供了一种纳米压印模板的制作方法，该制作方法包括：

在刚性衬底相对的第一侧和第二侧分别涂覆光学透明胶，并在位于所述第一侧的光学透明胶上设置离型膜；

使用压印设备或覆膜设备将所述刚性衬底的所述第二侧贴覆在柔性衬底之上；

在母模板具有与预设图形的一面上形成软模版，并在所述软模版上设置多个对比标识，其中，所述软模版具有与所述预设图形相对应的图案；

固定所述软模版与所述刚性衬底，其中，所述软模版背离所述图案的一侧面向所述刚性衬底。