[发明专利]一种良好电催化析氢性能的二氧化钼纳米线/纳米片薄膜阵列的制备方法有效

专利信息
申请号: 201910713671.5 申请日: 2019-08-02
公开(公告)号: CN110359061B 公开(公告)日: 2021-04-13
发明(设计)人: 张勇;刘志民;魏浩山;崔接武;王岩;秦永强;舒霞;吴玉程 申请(专利权)人: 合肥工业大学
主分类号: C25B11/054 分类号: C25B11/054;C25B11/077;C25B11/052;C25B1/04;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 代理人: 胡智勇
地址: 230000 *** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 良好 电催化 性能 氧化钼 纳米 薄膜 阵列 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种良好电催化析氢性能的二氧化钼纳米线/纳米片薄膜阵列的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

采用传统水热合成工艺,称取0.6-0.8g钼酸铵于烧杯中,然后只加入0.2-0.3mL30%过氧化氢或者同时加入0.2-0.3mL 30%过氧化氢和0.1-0.3mL无水乙醇,再加入去离子水至30mL,搅拌至全部溶解后,再将溶液置于聚四氟乙烯内胆中,向聚四氟乙烯内胆中放入2-4cm钼网,将聚四氟乙烯内胆放入金属反应釜中并拧紧,置于水热烘箱中水热反应在150-230℃下保温6-15h,最后用去离子水反复洗涤几次样品,并于60℃下保温1h烘干,得到外观为墨黑色的二氧化钼纳米线/纳米片薄膜阵列。

2.根据权利要求1所述的二氧化钼纳米线/纳米片薄膜阵列的制备方法,其特征在于,前驱体钼酸铵浓度为0.01618-0.02158M/L。

3.根据权利要求1所述的二氧化钼纳米线/纳米片薄膜阵列的制备方法,其特征在于,所述步骤1中过氧化氢浓度为0.06526-0.09790M/L。

4.根据权利要求1所述的二氧化钼纳米线/纳米片薄膜阵列的制备方法,其特征在于,水热反应的水热温度为170-210℃,水热反应时间为8-12h。

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