[发明专利]蒸镀掩模、蒸镀掩模装置及其制造方法、蒸镀方法

说明书

本发明提供蒸镀掩模、蒸镀掩模装置及其制造方法、蒸镀方法。蒸镀掩模具有：掩模，其具有形成有第1贯通孔的镀敷层；以及支承体，其与掩模接合，并形成有在俯视时与第1贯通孔重叠的第2贯通孔。

技术领域

本公开涉及蒸镀掩模、蒸镀掩模装置、蒸镀掩模的制造方法、蒸镀掩模装置的制造方法和蒸镀方法。

背景技术

近年来，针对智能手机、平板PC等可携带的设备中使用的显示装置，要求高精细、例如像素密度为500ppi以上。此外，在可携带的设备中，应对超高清(UHD)的需求也在提高，该情况下，要求显示装置的像素密度例如为800ppi以上。

在显示装置中，由于响应性良好、消耗电力低、对比度高，因此，有机EL显示装置备受关注。作为形成有机EL显示装置的像素的方法，公知有如下的方法：使用包含以期望图案排列的贯通孔的蒸镀掩模，以期望图案形成像素。具体而言，首先，将有机EL显示装置用的基板(有机EL基板)投入蒸镀装置中，接着，在蒸镀装置内使蒸镀掩模相对于有机EL基板紧密贴合，进行使有机材料蒸镀于有机EL基板的蒸镀工序。

专利文献1：日本特开2016-148112号公报

在专利文献1所公开的技术中，利用镀覆处理制造蒸镀掩模后，将该蒸镀掩模安装于框架来制造蒸镀掩模装置。此时，蒸镀掩模装置的框架将蒸镀掩模保持成张紧的状态。即，在固定于框架的状态下，对蒸镀掩模赋予张力。由此，抑制在蒸镀掩模中产生挠曲。但是，发现如下问题：由于对变薄的蒸镀掩模赋予张力，在该蒸镀掩模中产生褶皱、变形。

发明内容

本公开是考虑这种情况而完成的，其目的在于，提供能够抑制在蒸镀掩模中产生褶皱、变形的蒸镀掩模、蒸镀掩模装置、蒸镀掩模的制造方法、蒸镀掩模装置的制造方法和蒸镀方法。

本公开的第1方式是一种蒸镀掩模，其具有：掩模，其具有形成有第1贯通孔的镀敷层；以及支承体，其与所述掩模接合，并形成有在俯视时与所述第1贯通孔重叠的第2贯通孔，所述支承体的厚度为0.20mm以上且2.0mm以下。

本公开的第2方式也可以是，在上述第1方式的蒸镀掩模中，所述支承体具有与所述掩模接合的第1层、和与所述第1层接合的第2层，所述第2贯通孔贯通所述第1层和所述第2层。

本公开的第3方式也可以是，在上述第2方式的蒸镀掩模中，所述第1层和所述第2层通过粘接剂、焊料或焊接而相互接合。

本公开的第4方式也可以是，在上述第2方式或上述第3方式的蒸镀掩模中，从侧方通过金属覆盖所述第1层与所述第2层的接合面。

本公开的第5方式也可以是，在上述第4方式的蒸镀掩模中，通过镀敷处理形成所述金属。

本公开的第6方式也可以是，在上述第2方式～上述第5方式各自的蒸镀掩模中，所述支承体还具有与所述第2层接合的第3层。

本公开的第7方式也可以是，在上述第6方式的蒸镀掩模中，所述第2层和所述第3层通过粘接剂、焊料或焊接而相互接合。

本公开的第8方式也可以是，在上述第6方式或上述第7方式的蒸镀掩模中，从侧方通过金属覆盖所述第2层与所述第3层的接合面。

本公开的第9方式也可以是，在上述第8方式的蒸镀掩模中，通过镀敷处理形成所述金属。

本公开的第10方式也可以是，在上述第1方式～上述第9方式各自的蒸镀掩模中，所述支承体包含剪切模量(剛性率)为50GPa以上且65GPa以下的材料。

本公开的第11方式是一种蒸镀掩模装置，其具有：上述第1方式～上述第10方式中的任意一个方式的蒸镀掩模；以及框架，其与所述蒸镀掩模的所述支承体接合，并设置有在俯视时与所述第2贯通孔重叠的开口。