[发明专利]体声波谐振器及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201910735292.6 申请日: 2019-08-09
公开(公告)号: CN112039481A 公开(公告)日: 2020-12-04
发明(设计)人: 周春宇 申请(专利权)人: 中芯集成电路(宁波)有限公司
主分类号: H03H9/17 分类号: H03H9/17;H03H3/04
代理公司: 北京思创大成知识产权代理有限公司 11614 代理人: 张立君
地址: 315803 浙江省宁波市北*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 声波 谐振器 及其 制造 方法
【说明书】:

一种体声波谐振器及其制造方法,该体声波谐振器包括:压电叠层;位于压电叠层上的介质层,介质层中设有贯穿介质层空腔;位于介质层上的基板,基板覆盖介质层;位于基板中的伪腔,伪腔贯穿基板,且伪腔延伸至空腔外围的介质层中;位于介质层中的气压平衡孔,气压平衡孔连通伪腔和空腔;在基板和压电叠层之间的介质层中设置空腔,以便在压电叠层的压电材料与空腔交界处形成全反射界面,通过气压平衡孔使空腔和伪腔相连通,实现基板与压电叠层之间的空腔内部与外部压力平衡,防止基板由于内外压力不平衡而导致的向空腔内部凹陷变形。

技术领域

发明涉及谐振器技术领域,更具体地,涉及一种体声波谐振器及其 制造方法

背景技术

自模拟射频通讯技术在上世纪90代初被开发以来,射频前端模块已经 逐渐成为通讯设备的核心组件。在所有射频前端模块中,滤波器已成为增 长势头最猛、发展前景最大的部件。随着无线通讯技术的高速发展,5G通 讯协议日渐成熟,市场对射频滤波器的各方面性能也提出了更为严格的标 准。滤波器的性能由组成滤波器的谐振器单元决定。在现有的滤波器中, 薄膜体声波谐振器(FBAR)因其体积小、插入损耗低、带外抑制大、品质因数高、工作频率高、功率容量大以及抗静电冲击能力良好等特点,成为最 适合5G应用的滤波器之一。

通常,薄膜体声波谐振器包括两个薄膜电极,并且两个薄膜电极之间 设有压电薄膜层,其工作原理为利用压电薄膜层在交变电场下产生振动, 该振动激励出沿压电薄膜层厚度方向传播的体声波,此声波传至上下电极 与空气交界面被反射回来,进而在薄膜内部来回反射,形成震荡。当声波 在压电薄膜层中传播正好是半波长的奇数倍时,形成驻波震荡。

但是,目前制作出的空腔型薄膜体声波谐振器,其品质因子(Q)无法 进一步提高,因此无法满足高性能的射频系统的需求。

发明内容

本发明的目的是针对现有体声波谐振器中空腔内外压力不平衡的问 题,提供一种体声波谐振器及其制造方法,保证声波在电极材料和空气交 界面能够全反射的同时,还能使空腔内部与外界大气压平衡,提高谐振器 结构的稳定性。

为了实现上述目的,本发明提供一种体声波谐振器,包括:基板;压 电叠层;设于所述基板和所述压电叠层之间的介质层,所述介质层中设有 空腔、伪腔和气压平衡孔;所述空腔贯穿所述介质层,所述伪腔形成于所 述空腔外围的所述介质层中并贯穿所述基板,所述空腔与所述伪腔在所述 介质层中设有间隔;所述气压平衡孔连通所述空腔和所述伪腔。

可选地,所述压电叠层包括第一电极、位于第一电极上的压电层和位 于压电层上的第二电极。

可选地,所述气压平衡孔位于介质层和基板之间。

可选地,所述气压平衡孔位于介质层和压电叠层之间。

可选地,所述介质层包括氧化硅或氮化硅材料。

可选地,所述空腔的宽度为100um~400um,所述伪腔的宽度为 20um~50um。

可选地,所述第一电极和/或所述第二电极的材料包括钼、钽、钼的合 金或钽的合金中的一种。

可选地,所述压电层的材料包括氮化铝、氧化锌、钪氮化铝中的一种。

可选地,还包括第二绝缘层,设置在所述第二电极与所述介质层之间, 所述第二绝缘层包括氧化硅、氮化硅中的任意一种或两种组合。

可选地,所述压电叠层还包括调频层,所述调频层包括第一调频层和 第二调频层,所述第一调频层设置于所述第一电极远离压电层的一侧表面, 所述第二调频层设置于所述第二绝缘层与第二电极之间。

可选地,所述第一调频层和/或所述第二调频层的材料包括氧化硅、氮 化硅、氧化铝和氮化铝中的至少一种。

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