[发明专利]一种具有二次加湿系统的洁净室布置结构及洁净生产厂房

说明书

本发明涉及洁净生产厂房技术领域，公开了一种具有二次加湿系统的洁净室布置结构及洁净生产厂房，该具有二次加湿系统的洁净室布置结构包括：至少一组二次加湿系统，每一组二次加湿系统包括：加湿装置，设于洁净室的上技术夹层、下技术夹层、回风夹道或洁净生产区内；相对湿度传感器；与相对湿度传感器和加湿装置连接的湿度控制器，湿度控制器用于接收相对湿度传感器的湿度信号以根据湿度信号控制加湿装置工作。该具有二次加湿系统的洁净室布置结构中，在洁净室内设置有二次加湿系统，有效对室内空气进行二次加湿，增加洁净生产区的环境相对湿度，使产品的生产环境的相对湿度达到最佳值，有利于保证良好的生产工序制造环境，提高产品良率。

技术领域

本发明涉及洁净生产厂房技术领域，特别涉及一种具有二次加湿系统的洁净室布置结构及洁净生产厂房。

背景技术

目前电子工业的主流产品显示器件(TFT-LCD)生产厂房阵列曝光区(ArrayPhoto)、彩膜曝光区(CF Photo)涂胶与烘烤生产工序，以及配向膜(PI区)PI涂布、烘烤、PI重工生产工序在有机溶剂清洗过程产生的有机废气通过废气管道接至屋面沸石转轮机组、蓄热燃烧炉进行集中处理；但仍存在一部分挥发性有机物(VOC)遗留在上述产VOC生产工序的洁净室内，对人体及制造环境均有一定的不良影响；尤其是某些生产工序(如液晶滴注ODF区)对VOC比较敏感，当产VOC生产工序区遗留VOC浓度较高且通过空气流扩散至ODF区时，会严重影响产品良率；目前去除洁净室内VOC的有效措施是在产VOC生产工序的洁净区下技术夹层设置沸石转轮机组对空气中的VOC进行持续吸附再生的去除方法，将浓缩脱附后的VOC排放至屋面有机废气处理主系统。但处理空气通过沸石转轮机组的转轮(Rotor)时，约会发生0.5g/kg减湿，沸石转轮设置区洁净室内的相对湿度相应被降低。比如，洁净室温/湿度要求：23±1℃/55％±5％，如果洁净室现有温/湿度为23℃/55％状态，处理空气通过沸石转轮机组发生减湿后温/湿度变化为：23℃/52.25％；温湿度变化后不是最佳的生产环境温湿度状态，进而会对产品良率产生一定的影响。

另外，随着高世代TFT-LCD显示器行业的发展，洁净厂房面积需求越来越大；例如：第11代显示器生产厂房一般包括两层核心生产区，单层核心生产区洁净室面积可达到12万㎡，每层根据各生产工序洁净等级、温湿度、VOC浓度管控等不同的需求设置多个独立的洁净生产房间(简称独立分区)；目前此类高世代TFT-LCD项目一般采用洁净新风处理机组(MAU)+干盘管(DCC)+风机过滤器机组(FFU)净化空调送风系统；项目为节省支持区辅助空调机房面积，一般在生产厂房支持区集中设置空调机房，空调机房内布置多台洁净新风处理机组；室外空气经洁净新风处理机组集中降温除湿(或加热加湿)处理后进入各独立分区，由洁净新风处理机组确保洁净室所需要的相对湿度。无足够的空间条件针对各独立分区不同的相对湿度要求设置不同的新风处理系统；通过集中新风处理机组供应新风至各独立分区，只能实现各独立分区同一种温湿度需求。

针对上述生产环境湿度变化或者对生产环境相对湿度要求不同的情况，现有技术中针对湿度变化明显或湿度要求较高的洁净室的房间，在不增加室内空气含湿量(即室内空气含湿量保持不变)的情况下仅通过设低洁净室内的温度值来提高相对湿度的措施来接近室内温湿度需求值，但是实施该措施之后室内温湿度值始终会与生产需求温湿度值具有一定的偏差，对生产环境具有一定的影响，容易造成产品良率降低，所以，现在怎样可以维持洁净室内温湿度值满足产品生产要求是目前亟需解决的问题。

发明内容

本发明提供了一种具有二次加湿系统的洁净室布置结构及洁净生产厂房，该具有二次加湿系统的洁净室布置结构中，在洁净室内设置有二次加湿系统，可以有效对室内空气进行二次加湿，可以增加洁净生产区的环境相对湿度，以使产品的生产环境的相对湿度达到最佳值，有利于保证良好的生产工序制造环境，提高产品良率。

为达到上述目的，本发明提供以下技术方案：

一种具有二次加湿系统的洁净室布置结构，包括：至少一组二次加湿系统，每一组所述二次加湿系统包括：