[发明专利]一种阵列基板及其制备方法、显示装置

权利要求书

1.一种阵列基板，包括发光区和围绕所述发光区的非发光区，其特征在于，还包括

基板；

像素定义层，设于所述基板上，所述像素定义层中包括开孔和围绕所述开孔的挡墙，其中所述挡墙对应非发光区，所述开孔对应发光区；

相邻两个开孔之间的所述挡墙远离所述基板的一侧设有的凹槽。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述挡墙远离所述基板的一侧为外凸的弧形、外凸的锥形、外凸棱形中的一种，所述凹槽设于所述挡墙远离所述基板的一侧的中间位置。

3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，

所述凹槽的开口宽度在20～50微米之间，所述凹槽的开口深度为0.5～1微米。

4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，

任一所述开孔内均设有像素层，所述像素层包括红色像素层、绿色像素层和蓝色像素层。

5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，

所述像素定义层的材料为疏水疏油材料。

6.一种阵列基板的制备方法，所述阵列基板包括发光区和围绕所述发光区的非发光区，其特征在于，包括

提供一基板；

像素定义层制备步骤：在所述基板上形成像素定义层，在所述像素定义层对应所述发光区开设开孔，所述开孔贯穿所述像素定义层；

开槽步骤：相邻所述开孔之间的所述像素定义层形成挡墙，在所述挡墙远离所述基板一侧开设凹槽。

7.根据权利要求6所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，

所述挡墙远离所述基板一侧形成有外凸圆弧表面。

8.根据权利要求7所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，

在所述像素定义层制备步骤中，采用狭缝掩膜板制备所述外凸圆弧表面。

9.根据权利要求6所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，

在所述开槽步骤中，采用半色调掩膜板在所述挡墙上开设所述凹槽。

10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-5中任意一项所述阵列基板。