[发明专利]基于氩氦的涂覆

说明书

公开了基于氩氦的涂覆。溅射系统可以包括基底。溅射系统可以包括至少一个靶。至少一个靶可以包括至少一种涂覆材料，以将至少一层涂覆到基底上。至少一种涂覆材料可以在惰性气体存在下溅射到基底上。惰性气体可以包括氩气和氦气。

技术领域

本申请涉及但不限于基于氩氦的涂覆。

背景技术

涂覆系统可用于用特定材料涂覆基底。例如，脉冲直流(DC)磁控溅射系统可以用于薄膜层、厚膜层等的沉积。基于对一组层的沉积，可以形成光学元件。例如，薄膜可用于形成滤波器，例如光学干涉滤波器。在一些情况下，光学元件可以与在特定波长的光下提供特定功能相关联。例如，光学干涉滤波器可以用于近红外(NIR)范围的光、中红外(MIR)范围的光等。

在一示例中，光学发射器可以发射指向物体的NIR光。在这种情况下，对于手势识别系统，光学发射器可以向用户发射NIR光，并且NIR光可以从用户向光学接收器反射。光学接收器可以捕获关于NIR光的信息，并且该信息可以用于识别由用户执行的手势。例如，设备可以使用该信息来生成用户的三维表示，并基于该三维表示来识别由用户执行的手势。

在另一个示例中，关于NIR光的信息可以用于识别用户的身份、用户的特征(例如，身高或体重)、另一类型目标的特征(例如，到物体的距离、物体的尺寸或物体的形状)等。然而，在NIR光向用户传输期间和/或在从用户向光学接收器反射期间，环境光可能会干扰NIR光。因此，光学接收器可以光学耦合到光学滤波器，例如光学干涉滤波器、带通滤波器等，以允许NIR光朝向光学接收器通过。

发明内容

根据一些实施方式，溅射系统可以包括基底。溅射系统可以包括至少一个靶。该至少一个靶可以包括至少一种涂覆材料，以将至少一个层涂覆到基底上。至少一种涂覆材料可以在惰性气体存在下溅射到基底上。惰性气体可以包括氩气和氦气。

根据一些实施方式，涂覆系统可以包括真空室。涂覆系统可以包括惰性气体源，以将惰性气体置于真空室中。惰性气体可以包括氩气和氦气的混合物。涂覆系统可以被配置成使用惰性气体源将涂覆材料溅射到基底上。

根据一些实施方式，一种方法可以包括通过溅射系统将溅射气体注入溅射系统的腔室中。溅射气体可以是氩气和氦气的混合物。该方法可以包括基于将溅射气体注入溅射系统的腔室中而通过溅射系统将至少一种涂覆材料溅射到设置在溅射系统的腔室中的基底上。

在下文的一个或更多个实施例中可实现本公开的各方面：

1)一种溅射系统，包括：

基底；以及

至少一个靶，

其中所述至少一个靶包括至少一种涂覆材料以将至少一个层涂覆到所述基底上，

其中所述至少一种涂覆材料在惰性气体的存在下溅射到所述基底上，

其中所述惰性气体包括氩气和氦气。

2)根据1)所述的溅射系统，其中，所述惰性气体与大约1∶1至大约1∶3之间的氩气与氦气的比率相关联。

3)根据1)所述的溅射系统，其中，所述惰性气体与15％至55％的氦气相关联。

4)根据1)所述的溅射系统，其中，所述至少一种涂覆材料在用于使所述至少一种涂覆材料氢化的氢气的存在下溅射到所述基底上。

5)根据4)所述的溅射系统，其中，所述氢气与约8％至约20％的浓度相关联。

6)根据1)所述的溅射系统，其中，所述至少一个层包括第一类型材料的第一组层和第二类型材料的第二组层。

7)根据1)所述的溅射系统，其中，所述溅射系统是脉冲直流磁控溅射系统。