[发明专利]光学邻近修正方法在审

专利信息
申请号: 201910746475.8 申请日: 2019-08-13
公开(公告)号: CN110426915A 公开(公告)日: 2019-11-08
发明(设计)人: 黄增智;夏睿;黄双龙;倪凌云 申请(专利权)人: 德淮半导体有限公司
主分类号: G03F1/36 分类号: G03F1/36
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 徐文欣
地址: 223302 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 光刻图形 修正 光学邻近修正 边缘放置误差 模拟光 子目标 图形形成 预设距离 预设
【权利要求书】:

1.一种光学邻近修正方法,其特征在于,包括:

提供目标光刻图形,所述目标光刻图形包括相邻的第一子目标光刻图形和第二子目标光刻图形;

对所述目标光刻图形进行第一光学邻近修正,得到与所述目标光刻图形对应的第一修正图形,以及与所述第一修正图形对应的第一模拟光刻图形,所述第一修正图形包括与所述第一子目标光刻图形对应的第一子修正图形及与所述第二子目标光刻图形对应的第二子修正图形,所述第一子修正图形和所述第二子修正图形间具有修正最小间距,所述第一模拟光刻图形包括与所述第一子修正图形对应的第一子模拟光刻图形以及与所述第二子修正图形对应的第二子模拟光刻图形,所述第一子模拟光刻图形具有第一边缘放置误差,所述第二子模拟光刻图形具有第二边缘放置误差;

当所述修正最小间距等于最小预设距离,且所述第一边缘放置误差和第二边缘放置误差中的一者或两者大于或等于预设边缘放置误差时,对所述第一修正图形进行第二修正。

2.根据权利要求1所述的光学邻近修正方法,其特征在于,还包括:所述第一子修正图形具有第一端点,所述第二子修正图形具有第二端点,所述第一端点与所述第二端点相邻,且所述第一端点与所述第二端点间的间距为所述修正最小间距。

3.根据权利要求2所述的光学邻近修正方法,其特征在于,所述第一子修正图形还具有第一边缘线段和第二边缘线段,所述第一边缘线段与所述第二边缘线段相交于所述第一端点;所述第二修正包括:当所述第一边缘放置误差大于或等于所述预设边缘放置误差时,在所述第一边缘线段和所述第二边缘线段中的一者或两者上设置第一切分点,当在所述第一边缘线段上设置所述第一切分点时,所述第一切分点将所述第一边缘线段切分为第一子线段和第二子线段,且所述第一子线段与所述第二边缘线段相交,当在所述第二边缘线段上设置所述第一切分点时,所述第一切分点将所述第二边缘线段切分为第三子线段和第四子线段,且所述第三子线段与所述第一边缘线段相交;在设置所述第一切分点后,对所述第一修正图形进行第二光学邻近修正。

4.根据权利要求2所述的光学邻近修正方法,其特征在于,所述第二子修正图形还具有第三边缘线段和第四边缘线段,所述第三边缘线段与所述第四边缘线段相交于所述第二端点;所述第二修正包括:当所述第二边缘放置误差大于或等于所述预设边缘放置误差时,在所述第三边缘线段和所述第四边缘线段中的一者或两者上设置第二切分点,当在所述第三边缘线段上设置所述第二切分点时,所述第二切分点将所述第三边缘线段切分为第五子线段和第六子线段,且所述第五子线段与所述第四边缘线段相交,当在所述第四边缘线段上设置所述第二切分点时,所述第二切分点将所述第四边缘线段切分为第七子线段和第八子线段,且所述第七子线段与所述第三边缘线段相交;在设置所述第二切分点后,对所述第一修正图形进行第二光学邻近修正。

5.根据权利要求3所述的光学邻近修正方法,其特征在于,所述第一子线段的长度大于或等于预设线段长度,所述第二子线段的长度大于或等于预设线段长度,所述第三子线段的长度大于或等于预设线段长度,所述第四子线段的长度大于或等于预设线段长度。

6.根据权利要求4所述的光学邻近修正方法,其特征在于,所述第五子线段的长度大于或等于预设线段长度,所述第六子线段的长度大于或等于预设线段长度,所述第七子线段的长度大于或等于预设线段长度,所述第八子线段的长度大于或等于预设线段长度。

7.根据权利要求5或6所述的光学邻近修正方法,其特征在于,所述第二光学邻近修正的参数包括:最小切割边长,所述最小切割边长等于所述预设线段长度。

8.根据权利要求3或4所述的光学邻近修正方法,其特征在于,所述第二修正还包括:从所述第一修正图形中提取第二待修正区域,所述第二待修正区域是以所述第一端点或所述第二端点为中心的预设区域内的部分第一修正图形;在提取所述第二待修正区域后,对所述第二待修正区域内的所述第一修正图形进行所述第二光学邻近修正。

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