[发明专利]曝光晶圆的微影系统与方法有效
申请号: | 201910746867.4 | 申请日: | 2019-08-14 |
公开(公告)号: | CN110824857B | 公开(公告)日: | 2022-03-04 |
发明(设计)人: | 廖啟宏;吴旻政 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国 |
地址: | 中国台湾新竹市*** | 国省代码: | 台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 曝光 系统 方法 | ||
1.一种微影方法,其特征在于,包括:
产生极紫外(EUV)光;
使用一收集器将该EUV光聚集到一第一光学反射器的一第一区域上,其中该第一光学反射器为具有一对称轴的凹面镜或凸面镜;
使用该第一光学反射器的该第一区域将该EUV光反射到一光罩,从而赋予该EUV光一图案;
使用一第二光学反射器将具有该图案的该EUV光反射到一晶圆上;以及
旋转该第一光学反射器,使得该EUV光被该第一光学反射器的一第二区域反射,该第一光学反射器的该第一区域和该第二区域位于该第一光学反射器的一非中心区域内,通过旋转该第一旋转光学反射器,该第一区域从一原始位置离开,并且该第二区域旋转到与该第一区域的该原始位置相同的位置。
2.根据权利要求1所述的微影方法,其特征在于,其中产生该EUV光包括:
从一激光产生器产生一激光束,该激光束指向一靶标;以及
从一液滴产生器射出至少一个液滴到该靶标处,使得该液滴被该激光束照射并产生该EUV光,其中在产生该激光束并射出该液滴之后执行旋转该第一光学反射器。
3.根据权利要求2所述的微影方法,其特征在于,还包含:
在旋转该第一光学反射器之前停止产生该激光束和射出该液滴。
4.根据权利要求2所述的微影方法,其特征在于,还包含:
停止旋转该第一光学反射器;以及
在停止旋转该第一光学反射器之后停止产生该激光束和射出该液滴。
5.根据权利要求1所述的微影方法,其特征在于,其中产生该EUV光包括:
从一激光产生器产生一激光束,该激光束指向一靶标;以及
从一液滴产生器射出至少一个液滴到该靶标处,使得该液滴被该激光束照射并产生该EUV光,其中在旋转该第一光学反射器之后执行产生该激光束和射出该液滴。
6.根据权利要求5所述的微影方法,其特征在于,还包含:
在产生该激光束和射出该液滴之前停止旋转该第一光学反射器。
7.根据权利要求5所述的微影方法,其特征在于,还包含:
停止产生该激光束和射出该液滴;以及
在停止产生该激光束和射出该液滴之后停止旋转该第一光学反射器。
8.根据权利要求1所述的微影方法,其特征在于,其中在旋转该第一光学反射器期间执行产生该EUV光。
9.根据权利要求1所述的微影方法,其特征在于,其中在旋转该第一光学反射器期间执行使用该第一光学反射器来反射该EUV光。
10.根据权利要求1所述的微影方法,其特征在于,还包含:
停止旋转该第一光学反射器,使得当该第一光学反射器静止时该EUV光产生。
11.根据权利要求1所述的微影方法,其特征在于,还包含:
旋转该第二光学反射器,使得该第二光学反射器在旋转该第一光学反射器期间旋转。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910746867.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:用于解析速度模糊的MIMO雷达译码
- 下一篇:一次性注射器式负压引流装置