[发明专利]一种提升光学薄膜耐热性的生产工艺有效
| 申请号： | 201910749724.9 | 申请日： | 2019-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN110456428B | 公开（公告）日： | 2021-06-25 |
| 发明（设计）人： | 金正植;赵成权;李在成 | 申请（专利权）人： | 常宝新材料（苏州）有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/10 | 分类号： | G02B1/10 |
| 代理公司： | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人： | 汤东凤 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 提升 光学薄膜 耐热性 生产工艺 | ||
1.一种提升光学薄膜耐热性的生产工艺，其特征在于：包括以下步骤：
S1、首先选取多组PET基材，并切割成同一尺寸；
S2、然后在各组PET基材上表面分别涂设一层UV Resin，所述UV Resin的厚度为0.5-1mm，各组所述PET基材上表面涂设的UV Resin厚度不同，且各组的UV Resin厚度依次增加，且每相邻两组之间的UV Resin厚度相差0.1mm；
S3、之后将上述各组基材经过烘箱，进行加热处理；
S4、加热处理5-10min后，然后进行降温处理，在所述降温处理之前，先向所述烘箱内通入惰性保护气体，所述惰性保护气体可以采用N2、CO2和Ar中的一种或多种，且惰性气体的通入速度与降温速度成正比。
2.根据权利要求1所述的一种提升光学薄膜耐热性的生产工艺，其特征在于：所述S3中烘箱采用密闭型烘箱。
3.根据权利要求2所述的一种提升光学薄膜耐热性的生产工艺，其特征在于：所述S3中加热处理的温度保持在60-170℃。
4.根据权利要求1所述的一种提升光学薄膜耐热性的生产工艺，其特征在于：各组所述PET基材经过烘箱之前，对烘箱进行预热处理。
5.根据权利要求4所述的一种提升光学薄膜耐热性的生产工艺，其特征在于：所述预热处理的温度保持在30-60℃。
6.根据权利要求1所述的一种提升光学薄膜耐热性的生产工艺，其特征在于：所述降温处理时降温速度保持在每分钟下降10-20℃。
7.根据权利要求1所述的一种提升光学薄膜耐热性的生产工艺，其特征在于：所述降温处理时降温速度还可以控制为骤降，即在单位时间内将温度降至室温。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于常宝新材料（苏州）有限公司，未经常宝新材料（苏州）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910749724.9/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：低折射率光学镀膜材料及其应用
- 下一篇：形成微镜头阵列的方法以及光遮罩
