[发明专利]一种提升光学薄膜耐热性的生产工艺有效

专利信息
申请号: 201910749724.9 申请日: 2019-08-14
公开(公告)号: CN110456428B 公开(公告)日: 2021-06-25
发明(设计)人: 金正植;赵成权;李在成 申请(专利权)人: 常宝新材料(苏州)有限公司
主分类号: G02B1/10 分类号: G02B1/10
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 代理人: 汤东凤
地址: 215000 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 提升 光学薄膜 耐热性 生产工艺
【说明书】:

发明公开了一种提升光学薄膜耐热性的生产工艺,属于薄膜耐热性提升技术领域,一种提升光学薄膜耐热性的生产工艺,可以通过在基材(PET)表面涂设一层UV Resin,并进行加热处理,可以实现提高后期由基材(PET)制造的光学薄膜分子间的稳定性,使得纵向(MD)和横向(TD)的收缩率也随之降低,有效提高其耐热性,有效避免光学薄膜成品在使用时由于受热发生形变的情况,提高光学薄膜的使用寿命和使用范围,降低材料的浪费率,并且还可以确定出UV Resin对于保持基材(PET)最小收缩率的厚度,有效提高后续对光学薄膜热处理的工作量。

技术领域

本发明涉及薄膜耐热性提升技术领域,更具体地说,涉及一种提升光学薄膜耐热性的生产工艺。

背景技术

由薄的分层介质构成的,通过界面传播光束的一类光学介质材料。光学薄膜的应用始于20世纪30年代。现代,光学薄膜已广泛用于光学和光电子技术领域,制造各种光学仪器。

主要的光学薄膜器件包括反射膜、减反射膜、偏振膜、干涉滤光片和分光镜等等。它们在国民经济和国防建设中得到了广泛的应用,获得了科学技术工作者的日益重视。例如采用减反射膜后可使复杂的光学镜头的光通量损失成十倍地减小;采用高反射比的反射镜可使激光器的输出功率成倍提高;利用光学薄膜可提高硅光电池的效率和稳定性。

最简单的光学薄膜模型是表面光滑、各向同性的均匀介质薄层。在这种情况下,可以用光的干涉理论来研究光学薄膜的光学性质。当一束单色平面波入射到光学薄膜上时,在它的两个表面上发生多次反射和折射,反射光和折射光的方向由反射定律和折射定律给出,反射光和折射光的振幅大小则由菲涅耳公式确定(见光在分界面上的折射和反射)。

光学薄膜的特点是:表面光滑,膜层之间的界面呈几何分割;膜层的折射率在界面上可以发生跃变,但在膜层内是连续的;可以是透明介质,也可以是吸收介质;可以是法向均匀的,也可以是法向不均匀的。实际应用的薄膜要比理想薄膜复杂得多。这是因为:制备时,薄膜的光学性质和物理性质偏离大块材料,其表面和界面是粗糙的,从而导致光束的漫散射;膜层之间的相互渗透形成扩散界面;由于膜层的生长、结构、应力等原因,形成了薄膜的各向异性;膜层具有复杂的时间效应。

光学薄膜按应用分为反射膜、增透膜、滤光膜、光学保护膜、偏振膜、分光膜和位相膜。常用的是前4种。光学反射膜用以增加镜面反射率,常用来制造反光、折光和共振腔器件。光学增透膜沉积在光学元件表面,用以减少表面反射,增加光学系统透射,又称减反射膜。光学滤光膜用来进行光谱或其他光性分割,其种类多,结构复杂。光学保护膜沉积在金属或其他软性易侵蚀材料或薄膜表面,用以增加其强度或稳定性,改进光学性质。最常见的是金属镜面的保护膜。

但是现有技术中的光学薄膜的热稳定性较差,其在受热后,光学薄膜的分子间不稳定,在横向和纵向上发生收缩,导致整个光学薄膜发生不可逆的变形,一方面影响光学薄膜的使用寿命,另一方面导致材料浪费。

发明内容

1.要解决的技术问题

针对现有技术中存在的问题,本发明的目的在于提供一种提升光学薄膜耐热性的生产工艺,它可以通过在PET基材表面涂设一层UV Resin,并进行加热处理,可以实现提高后期由PET基材制造的光学薄膜分子间的稳定性,使得纵向(MD)和横向(TD)的收缩率也随之降低,有效提高其耐热性,有效避免光学薄膜成品在使用时由于受热发生形变的情况,提高光学薄膜的使用寿命和使用范围,降低材料的浪费率,并且还可以确定出UV Resin对于保持PET基材最小收缩率的厚度,有效提高后续对光学薄膜热处理的工作量。

2.技术方案

为解决上述问题,本发明采用如下的技术方案:

一种提升光学薄膜耐热性的生产工艺,包括以下步骤:

S1、首先选取多组PET基材,并切割成同一尺寸;

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