[发明专利]一种高速超导纳米线单光子探测器结构有效

专利信息
申请号: 201910751749.2 申请日: 2019-08-15
公开(公告)号: CN110487402B 公开(公告)日: 2021-11-16
发明(设计)人: 赵清源;康琳;陶旭 申请(专利权)人: 南京大学
主分类号: G01J1/44 分类号: G01J1/44
代理公司: 南京知识律师事务所 32207 代理人: 李湘群
地址: 210093 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 高速 导纳 米线 光子 探测器 结构
【权利要求书】:

1.一种高速超导纳米线单光子探测器结构,其特征在于:包括雪崩纳米线探测器、并联电阻Rh,所述雪崩纳米线探测器采用串联型雪崩纳米线结构,即由两根或多根纳米线并联成一组,每四组或多组串联在一起构成蜿蜒结构的雪崩纳米线单元,雪崩纳米线单元在首端和末端并联电阻Rh,形成一个探测单元,若干个探测单元串联,形成一个探测器阵列,整个探测器阵列的射频输出为一个端口,所述并联电阻Rh采用一根金属微线条在纳米线近端制备而成。

2.根据权利要求1所述的一种高速超导纳米线单光子探测器结构,其特征在于:还包括低温读出电路,雪崩纳米线探测器的直流偏置由外部低噪声电流源经过偏置电感Ls提供,整个阵列结构的射频输出端口串联电阻Rs、耦合电容Cp和低温射频放大器。

3.根据权利要求2所述的一种高速超导纳米线单光子探测器结构,其特征在于:所述耦合电容Cp包含在低温射频放大器中。

4.根据权利要求1所述的一种高速超导纳米线单光子探测器结构,其特征在于:纳米线先经过一次电子束曝光工艺,形成纳米线单光子响应区域和电极部分;通过第二次电子束曝光工艺和Liftoff工艺,在纳米线的附近沉积金属微线条,通过改变金属微线条的宽度和厚度,调整Rh的电阻值。

5.根据权利要求2所述的一种高速超导纳米线单光子探测器结构,其特征在于:整个探测器阵列的偏置电流的恢复时间常数为N×Lk/(Rs+RL),其中N为串联探测单元的数目,Lk为每个探测单元的总动态电感,RL为放大器的输入阻抗。

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